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1. WO2019220675 - CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

Numéro de publication WO/2019/220675
Date de publication 21.11.2019
N° de la demande internationale PCT/JP2018/046862
Date du dépôt international 19.12.2018
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 13.03.2020
CIB
C23C 14/34 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
34Pulvérisation cathodique
B22F 1/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
22FONDERIE; MÉTALLURGIE DES POUDRES MÉTALLIQUES
FTRAVAIL DES POUDRES MÉTALLIQUES; FABRICATION D'OBJETS À PARTIR DE POUDRES MÉTALLIQUES; FABRICATION DE POUDRES MÉTALLIQUES; APPAREILS OU DISPOSITIFS SPÉCIALEMENT ADAPTÉS AUX POUDRES MÉTALLIQUES
1Traitement particulier des poudres métalliques, p.ex. en vue de faciliter leur mise en œuvre, d'améliorer leurs propriétés; Poudres métalliques en soi, p.ex. mélanges de particules de compositions différentes
C22C 1/05 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
1Fabrication des alliages non ferreux
04par métallurgie des poudres
05Mélanges de poudre métallique avec de la poudre non métallique
C22C 19/07 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
19Alliages à base de nickel ou de cobalt, seuls ou ensemble
07à base de cobalt
C22C 26/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
26Alliages contenant du diamant
C22C 38/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
38Alliages ferreux, p.ex. aciers alliés
CPC
B22F 1/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
22CASTING; POWDER METALLURGY
FWORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER
1Special treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working, to improve properties
C22C 1/05
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
1Making alloys
04by powder metallurgy
05Mixtures of metal powder with non-metallic powder
C22C 19/07
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
19Alloys based on nickel or cobalt
07based on cobalt
C22C 26/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
26Alloys containing diamond ; or cubic or wurtzitic boron nitride, fullerenes or carbon nanotubes
C22C 32/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
32Non-ferrous alloys containing at least 5% by weight but less than 50% by weight of oxides, carbides, borides, nitrides, silicides or other metal compounds, e.g. oxynitrides, sulfides whether added as such or formed in situ
C22C 38/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
38Ferrous alloys, e.g. steel alloys
Déposants
  • JX金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 下宿 彰 SHIMOJUKU,Akira
Mandataires
  • アクシス国際特許業務法人 AXIS PATENT INTERNATIONAL
Données relatives à la priorité
2018-09320314.05.2018JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法
Abrégé
(EN)
Provided are a sputtering target and a method for manufacturing the same, whereby generation of particles can be reduced, and manufacturing yield can be enhanced in a process of forming a magnetic thin film. A sputtering target having an Fe-Pt-based alloy phase and a non-magnetic phase, wherein the sputtering target contains 1-50 at% C as an atom number ratio, and the sputtering target has a diffraction peak originating from diamond in XRD measurement thereof.
(FR)
L'invention concerne une cible de pulvérisation cathodique et son procédé de fabrication, moyennant quoi la génération de particules peut être réduite, et le rendement de fabrication peut être amélioré dans un processus de formation d'une couche mince magnétique. Une cible de pulvérisation cathodique présente une phase d'alliage à base de Fe-Pt et une phase amagnétique, la cible de pulvérisation cathodique contenant de 1 à 50 en pourcentage % atomique de C en tant que rapport de nombre atomique, et la cible de pulvérisation cathodique ayant un pic de diffraction provenant du diamant dans une mesure XRD de celui-ci.
(JA)
パーティクルの発生を低減でき、磁性薄膜の成膜工程における製造歩留まりを向上させることが可能なスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。Fe-Pt系合金相と非磁性相とを有するスパッタリングターゲットであって、原子数比率においてCを1~50at%含有し、XRD測定においてダイヤモンド由来の回折ピークを有するスパッタリングターゲットである。
Également publié en tant que
JP2020518960
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