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1. WO2019188899 - PROCÉDÉ DE DÉVELOPPEMENT ET DISPOSITIF DE DÉVELOPPEMENT DE PLAQUE D'IMPRESSION

Numéro de publication WO/2019/188899
Date de publication 03.10.2019
N° de la demande internationale PCT/JP2019/012355
Date du dépôt international 25.03.2019
CIB
G03F 7/30 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
30Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
B01D 39/20 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
DSÉPARATION
39Substance filtrante pour fluides liquides ou gazeux
14Autres substances filtrantes autoportantes
20en substance inorganique, p.ex. papier d'amiante ou substance filtrante métallique faite de fils métalliques non-tissés
G03F 7/00 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
CPC
B01D 39/20
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
39Filtering material for liquid or gaseous fluids
14Other self-supporting filtering material ; ; Other filtering material
20of inorganic material, e.g. asbestos paper, metallic filtering material of non-woven wires
G03F 7/00
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
G03F 7/30
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
30Imagewise removal using liquid means
Déposants
  • 住友理工株式会社 SUMITOMO RIKO COMPANY LIMITED [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 深津 宏介 FUKATSU, Kosuke
  • 筒井 雄也 TSUTSUI, Yuya
  • 太田 友明 OTA, Tomoaki
  • 田口 純 TAGUCHI, Jun
  • 松岡 甲樹 MATSUOKA, Koki
Mandataires
  • 特許業務法人上野特許事務所 WENO & PARTNERS
Données relatives à la priorité
2018-06704130.03.2018JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PRINTING PLATE DEVELOPMENT METHOD AND DEVELOPMENT DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE DÉVELOPPEMENT ET DISPOSITIF DE DÉVELOPPEMENT DE PLAQUE D'IMPRESSION
(JA) 印刷版の現像方法および現像装置
Abrégé
(EN)
Provided is a printing plate development method that, in the treatment of development waste liquid, suppresses clogging of a filter, allows for long-term operation, reduces the volume of disposed development waste liquid by enabling the reuse of development waste liquid as a developing solution, and has excellent cost performance. The development method of the present invention develops, via an aqueous developing solution, a photosensitive resin layer containing a water-insoluble polymer, and involves a circulation route in which development waste liquid that was used for development is recovered and returned to a supply unit. A separation step is provided inside or outside the circulation route, and in the separation step, all or a portion of the development waste liquid is extracted and then separated, using a ceramic filter, into a high concentration developing solution having a high concentration of the water-insoluble polymer and a low-concentration developing solution having a low concentration of the same, and the low-concentration developing solution is returned to inside the circulation route. The ceramic filter comprises a material for which the average pore size of a surface side region at a depth of within 100 μm from the surface is smaller than the average pore size of an interior region further to the interior than the surface side region, and in the separation step, a plurality of ceramic filters are used.
(FR)
L'invention concerne un procédé de développement de plaque d'impression qui, dans le traitement de déchets liquides de développement, supprime le colmatage d'un filtre, permet un fonctionnement à long terme, réduit le volume de déchets liquides de développement rejetés en permettant la réutilisation de déchets liquides de développement en tant que solution de développement, et a une excellente performance économique. Le procédé de développement selon la présente invention développe, par l'intermédiaire d'une solution de développement aqueuse, une couche de résine photosensible contenant un polymère insoluble dans l'eau, et implique une voie de circulation dans laquelle des déchets liquides de développement qui ont été utilisés pour un développement sont récupérés et renvoyés à une unité d'alimentation. Une étape de séparation est prévue à l'intérieur ou à l'extérieur de la voie de circulation, et dans l'étape de séparation, la totalité ou une partie des déchets liquides de développement est extraite et ensuite séparée, à l'aide d'un filtre céramique, en une solution de développement à haute concentration ayant une concentration élevée du polymère insoluble dans l'eau et une solution de développement à faible concentration ayant une faible concentration de celui-ci, et la solution de développement à faible concentration est renvoyée à l'intérieur de la voie de circulation. Le filtre céramique comprend un matériau pour lequel la taille de pore moyenne d'une région côté surface à une profondeur dans les 100 µm à partir de la surface est inférieure à la taille de pore moyenne d'une région intérieure plus loin à l'intérieur que la région côté surface, et dans l'étape de séparation, une pluralité de filtres en céramique sont utilisés.
(JA)
現像廃液の処理において、フィルターの目詰まりが抑制され、長期運転可能であり、現像廃液を現像液として再利用可能にすることで現像廃液の廃棄量を低減し、コスト性に優れる印刷版の現像方法を提供する。 非水溶性ポリマーを含有する感光性樹脂層を水系現像液で現像する現像方法において、現像に使用された現像廃液を回収して供給部に戻す循環経路を有し、現像廃液の一部または全部を取り出し、セラミックフィルターを用いて、非水溶性ポリマー濃度が高い高濃度現像液と、濃度が低い低濃度現像液とに分離する分離工程を、循環経路の内または外に備え、前記低濃度現像液を循環経路内に戻すこととしており、セラミックフィルターは、表面から深さ100μm以内の表面側領域の平均孔径が表面側領域よりも内部の内部領域の平均孔径より小さいものからなり、分離工程において、セラミックフィルターを複数枚用いている。
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