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1. WO2019129569 - PROCÉDÉS ET SYSTÈMES D'INSPECTION ET D'EXAMEN DE DÉFAUT

Numéro de publication WO/2019/129569
Date de publication 04.07.2019
N° de la demande internationale PCT/EP2018/085808
Date du dépôt international 19.12.2018
CIB
G06T 7/00 2017.01
GPHYSIQUE
06CALCUL; COMPTAGE
TTRAITEMENT OU GÉNÉRATION DE DONNÉES D'IMAGE, EN GÉNÉRAL
7Analyse d'image
CPC
G01R 31/307
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
31Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
302Contactless testing
305using electron beams
307of integrated circuits
G06K 9/00147
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
KRECOGNITION OF DATA; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
9Methods or arrangements for reading or recognising printed or written characters or for recognising patterns, e.g. fingerprints
00127Acquiring and recognising microscopic objects, e.g. biological cells and cellular parts
00147Matching; Classification
G06T 2207/10056
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
2207Indexing scheme for image analysis or image enhancement
10Image acquisition modality
10056Microscopic image
G06T 2207/30148
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
2207Indexing scheme for image analysis or image enhancement
30Subject of image; Context of image processing
30108Industrial image inspection
30148Semiconductor; IC; Wafer
G06T 7/0004
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
7Image analysis
0002Inspection of images, e.g. flaw detection
0004Industrial image inspection
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • FANG, Wei
Mandataires
  • PETERS, John
Données relatives à la priorité
62/612,59931.12.2017US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHODS AND SYSTEMS FOR DEFECT INSPECTION AND REVIEW
(FR) PROCÉDÉS ET SYSTÈMES D'INSPECTION ET D'EXAMEN DE DÉFAUT
Abrégé
(EN)
Systems and methods for detecting defects are disclosed. According to certain embodiments, a method of performing image processing includes acquiring one or more images of a sample, performing first image analysis on the one or more images, identifying a plurality of first features in the one or more images, determining pattern data corresponding to the plurality of first features, selecting at least one of the plurality of first features based on the pattern data, and performing second image analysis of the at least one of the plurality of first features. Methods may also include determining defect probability of the plurality of first features based on the pattern data. Selecting the at least one of the plurality of first features may be based on the defect probability.
(FR)
La présente invention concerne des systèmes et des procédés de détection des défauts. Selon certains modes de réalisation, un procédé de réalisation d'un traitement d'image consiste à acquérir une ou plusieurs images d'un échantillon, à réaliser une première analyse d'image sur lesdites images, à identifier une pluralité de premières caractéristiques dans lesdites images, à déterminer des données de motif correspondant à la pluralité de premières caractéristiques, à sélectionner au moins une première caractéristique de la pluralité de premières caractéristiques sur la base des données de motif, et à réaliser une seconde analyse d'image de ladite première caractéristique de la pluralité de premières caractéristiques. Les procédés peuvent également consister à déterminer une probabilité de défaut de la pluralité de premières caractéristiques sur la base des données de motif. La sélection de ladite première caractéristique de la pluralité de premières caractéristiques peut être fondée sur la probabilité de défaut.
Également publié en tant que
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