(EN) Systems and methods for detecting defects are disclosed. According to certain embodiments, a method of performing image processing includes acquiring one or more images of a sample, performing first image analysis on the one or more images, identifying a plurality of first features in the one or more images, determining pattern data corresponding to the plurality of first features, selecting at least one of the plurality of first features based on the pattern data, and performing second image analysis of the at least one of the plurality of first features. Methods may also include determining defect probability of the plurality of first features based on the pattern data. Selecting the at least one of the plurality of first features may be based on the defect probability.
(FR) La présente invention concerne des systèmes et des procédés de détection des défauts. Selon certains modes de réalisation, un procédé de réalisation d'un traitement d'image consiste à acquérir une ou plusieurs images d'un échantillon, à réaliser une première analyse d'image sur lesdites images, à identifier une pluralité de premières caractéristiques dans lesdites images, à déterminer des données de motif correspondant à la pluralité de premières caractéristiques, à sélectionner au moins une première caractéristique de la pluralité de premières caractéristiques sur la base des données de motif, et à réaliser une seconde analyse d'image de ladite première caractéristique de la pluralité de premières caractéristiques. Les procédés peuvent également consister à déterminer une probabilité de défaut de la pluralité de premières caractéristiques sur la base des données de motif. La sélection de ladite première caractéristique de la pluralité de premières caractéristiques peut être fondée sur la probabilité de défaut.