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1. WO2019106012 - SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE MODULATION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES

Numéro de publication WO/2019/106012
Date de publication 06.06.2019
N° de la demande internationale PCT/EP2018/082840
Date du dépôt international 28.11.2018
CIB
H01J 37/28 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
28avec faisceaux de balayage
H01J 37/04 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
04Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
H01J 37/244 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
244Détecteurs; Composants ou circuits associés
CPC
H01J 2237/0432
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
04Means for controlling the discharge
043Beam blanking
0432High speed and short duration
H01J 2237/0435
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
04Means for controlling the discharge
043Beam blanking
0435Multi-aperture
H01J 2237/1508
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
15Means for deflecting or directing discharge
1508Combined electrostatic-electromagnetic means
H01J 2237/2441
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
244Detection characterized by the detecting means
2441Semiconductor detectors, e.g. diodes
H01J 2237/2446
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
244Detection characterized by the detecting means
2446Position sensitive detectors
H01J 2237/24495
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
244Detection characterized by the detecting means
24495Signal processing, e.g. mixing of two or more signals
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • SHAKED, Ehud
  • MAASSEN, Martinus, Gerardus, Maria, Johannes
Mandataires
  • PETERS, John
Données relatives à la priorité
15/826,60029.11.2017US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SYSTEMS AND METHODS FOR CHARGED PARTICLE BEAM MODULATION
(FR) SYSTÈMES ET PROCÉDÉS DE MODULATION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Abrégé
(EN)
Systems and methods for conducting charged particle beam modulation are disclosed. According to certain embodiments, a charged particle beam apparatus (510) generates a plurality of charged particle beams. A modulator (800) is configured to receive the plurality of charged particle beams and generate a plurality of modulated charged particle beams. A detector (541) is configured to receive the plurality of modulated charged particle beams.
(FR)
L'invention concerne des systèmes et des procédés permettant d'effectuer une modulation de faisceau de particules chargées. Selon certains modes de réalisation, un appareil à faisceau de particules chargées (510) génère une pluralité de faisceaux de particules chargées. Un modulateur (800) est configuré pour recevoir la pluralité de faisceaux de particules chargées et produire une pluralité de faisceaux de particules chargées modulés. Un détecteur (541) est configuré pour recevoir la pluralité de faisceaux de particules chargées modulés.
Également publié en tant que
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