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1. (WO2019065224) DISPOSITIF DE TRAÇAGE DE MOTIF
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N° de publication : WO/2019/065224 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/033703
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 11.09.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 26/12 (2006.01) ,G02F 1/33 (2006.01) ,G02F 1/37 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26
Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation
08
pour commander la direction de la lumière
10
Systèmes de balayage
12
utilisant des miroirs à facettes multiples
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
29
pour la commande de la position ou de la direction des rayons lumineux, c. à d. déflexion
33
Dispositifs de déflexion acousto-optique
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
35
Optique non linéaire
37
pour la génération de l'harmonique deux
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs :
加藤正紀 KATO Masaki; JP
中山修一 NAKAYAMA Shuichi; JP
鬼頭義昭 KITO Yoshiaki; JP
鈴木智也 SUZUKI Tomonari; JP
堀正和 HORI Masakazu; JP
林田洋祐 HAYASHIDA Yosuke; JP
Mandataire :
千葉剛宏 CHIBA Yoshihiro; JP
宮寺利幸 MIYADERA Toshiyuki; JP
千馬隆之 SENBA Takayuki; JP
仲宗根康晴 NAKASONE Yasuharu; JP
坂井志郎 SAKAI Shiro; JP
関口亨祐 SEKIGUCHI Kosuke; JP
Données relatives à la priorité :
2017-18435726.09.2017JP
2017-18436026.09.2017JP
2017-18436326.09.2017JP
Titre (EN) PATTERN-DRAWING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAÇAGE DE MOTIF
(JA) パターン描画装置
Abrégé :
(EN) A pattern-drawing device (EX) is provided with a drawing unit (Un) for scanning a spot light (SP) of a drawing beam (LBn) in the main scan direction and drawing a pattern, and a movement mechanism for moving a substrate (P) and the drawing unit (Un) in the sub-scan direction relative to each other. The pattern-drawing device (EX) alternatively switches, using an optical element (OSn) for selection, between a first state for causing a beam (LB) from a light source device (LS) to be deflected at a prescribed deflection angle by a change of optical characteristics due to an electric signal and causing the deflected beam to enter the drawing unit (Un) as the drawing beam (LBn) and a second state for not causing the deflected beam to enter the drawing unit (Un), and, in order to cause the spot light (SP) projected from the drawing unit (Un) to be shifted in the sub-scan direction by a prescribed amount when in the first state, controls the electric signal so that the deflection angle by the optical element (OSn) for selection changes, and corrects a change of intensity of the spot light (SP) which occurs due to a change of the deflection angle by the optical element (OSn) for selection, in accordance with the optical characteristics of the optical element (OSn) for selection.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de traçage de motif (EX) pourvu d'une unité de traçage (un) permettant de balayer une lumière dirigée (SP) d'un faisceau de traçage (LBn) dans la direction de balayage principal et de tracer un motif, et d'un mécanisme de déplacement permettant de déplacer un substrat (P) et l'unité de traçage (Un) dans la direction de sous-balayage l'un par rapport à l'autre. Le dispositif de traçage de motif (EX) passe alternativement, à l'aide d'un élément optique (OSn) de sélection, d'un premier état permettant d'amener un faisceau (LB) d'un dispositif de source de lumière (LS) à dévier selon un angle de déviation prescrit par un changement de caractéristiques optiques provoqué par un signal électrique et d'amener le faisceau dévié à entrer dans l'unité de traçage (Un) en tant que faisceau de traçage (LBn), à un second état permettant de ne pas amener le faisceau dévié à entrer dans l'unité de traçage (Un). Afin d'amener la lumière dirigée (SP) projetée depuis l'unité de traçage (Un) à dévier dans la direction de sous-balayage d'une quantité prescrite lorsqu'elle est dans le premier état, le dispositif de traçage de motif (EX) commande le signal électrique de sorte que l'angle de déviation par l'élément optique (OSn) de sélection change, et corrige un changement d'intensité de la lumière dirigée (SP) qui se produit en raison d'un changement de l'angle de déviation par l'élément optique (OSn) de sélection, en fonction des caractéristiques optiques de l'élément optique (OSn) de sélection.
(JA) パターン描画装置(EX)は、描画ビーム(LBn)のスポット光(SP)を主走査方向に走査してパターンを描画する描画ユニット(Un)と、基板(P)と描画ユニット(Un)とを副走査方向に相対移動させる為の移動機構とを備える。パターン描画装置(EX)は、選択用光学素子(OSn)を用いて、光源装置(LS)からのビーム(LB)を、電気信号による光学特性の変化によって所定の偏向角度で偏向させて描画ビーム(LBn)として描画ユニット(Un)に入射させる第1の状態と、描画ユニット(Un)に非入射とする第2の状態とに択一的に切り換え、第1の状態のときに、描画ユニット(Un)から投射されるスポット光(SP)を副走査方向に所定の量だけシフトさせる為に、選択用光学素子(OSn)による偏向角度を変化させるように電気信号を制御し、選択用光学素子(OSn)による偏向角度の変化に伴って生じるスポット光(SP)の強度変化を、選択用光学素子(OSn)の光学特性に応じて補正する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)