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1. (WO2019064993) STRUCTURE, COMPOSITION DE FORMATION DE PAROIS DE SÉPARATION, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE
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N° de publication : WO/2019/064993 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/030730
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 21.08.2018
CIB :
G02B 5/20 (2006.01) ,C09D 183/04 (2006.01) ,H01L 31/10 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
20
Filtres
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
D
COMPOSITIONS DE REVÊTEMENT, p.ex. PEINTURES, VERNIS OU VERNIS-LAQUES; APPRÊTS EN PÂTE; PRODUITS CHIMIQUES POUR ENLEVER LA PEINTURE OU L'ENCRE; ENCRES; CORRECTEURS LIQUIDES; COLORANTS POUR BOIS; PRODUITS SOLIDES OU PÂTEUX POUR COLORIAGE OU IMPRESSION; EMPLOI DE MATÉRIAUX À CET EFFET
183
Compositions de revêtement à base de composés macromoléculaires obtenus par des réactions créant dans la chaîne principale de la macromolécule une liaison contenant uniquement du silicium, avec ou sans soufre, azote, oxygène ou carbone; Compositions de revêtement à base de dérivés de tels polymères
04
Polysiloxanes
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
31
Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails
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dans lesquels le rayonnement commande le flux de courant à travers le dispositif, p.ex. photo-résistances
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caractérisés par au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. photo-transistors
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
大河原 昂広 OKAWARA Takahiro; JP
Mandataire :
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
Données relatives à la priorité :
2017-18429326.09.2017JP
Titre (EN) STRUCTURE, COMPOSITION FOR FORMING PARTITION WALLS, SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
(FR) STRUCTURE, COMPOSITION DE FORMATION DE PAROIS DE SÉPARATION, ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE
(JA) 構造体、隔壁形成用組成物、固体撮像素子および画像表示装置
Abrégé :
(EN) Provided is a structure which has partition walls having excellent smoothness and a low refractive index. Also, provided are a composition which is for forming partition walls and which is used in the structure, a solid-state imaging element including the structure, and an image display device. A structure 100 has a support 1, partition walls 2 provided on the support 1, and pixels 4 provided in regions separated by the partition walls, wherein the partition walls 2 are formed using a composition containing a cage siloxane compound. The cage siloxane compound preferably has a partial structure represented by "(*-SiO1.5)n". In the formula, * represents a linking bond, and n represents an integer of 6-16.
(FR) L'invention concerne une structure qui comporte des parois de séparation ayant un excellent lissé et un faible indice de réfraction. L'invention concerne également une composition qui est destinée à former des parois de séparation et qui est utilisée dans la structure, un élément d'imagerie à semi-conducteurs comprenant la structure, et un dispositif d'affichage d'image. La structure (100) comporte un support (1), des parois de séparation (2) disposées sur le support (1), et des pixels (4) disposés dans des régions séparées par les parois de séparation, les parois de séparation (2) étant formées à l'aide d'une composition contenant un composé de siloxane de cage. Le composé de siloxane de cage a de préférence une structure partielle représentée par « (*-SiO1.5)n ». Dans la formule, * représente une liaison et n représente un nombre entier compris entre 6 et 16.
(JA) 屈折率が小さく、平滑性に優れた隔壁を有する構造体を提供する。また、この構造体に用いられる隔壁形成用組成物、構造体を含む固体撮像素子および画像表示装置を提供する。構造体100は、支持体1と、支持体1上に設けられた隔壁2と、隔壁で区切られた領域に設けられた画素4と、を有し、隔壁2がかご型シロキサン化合物を含む組成物を用いて形成された隔壁である。かご型シロキサン化合物は、「(*-SiO1.5」で表される部分構造を有する化合物であることが好ましい。式中、*は連結手を表し、nは6~16の整数を表す。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)