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1. (WO2019064472) DISPOSITIF DE RAYONNEMENT DE LUMIÈRE UV ET PROCÉDÉ DE RAYONNEMENT DE LUMIÈRE UV
Document

明 細 書

発明の名称 UV光照射装置及びUV光照射方法

技術分野

0001  

背景技術

0002  

先行技術文献

特許文献

0003  

発明の概要

発明が解決しようとする課題

0004  

課題を解決するための手段

0005   0006   0007  

発明の効果

0008  

図面の簡単な説明

0009  

発明を実施するための形態

0010   0011   0012   0013   0014   0015   0016   0017   0018   0019   0020   0021   0022   0023   0024   0025   0026   0027   0028   0029   0030   0031   0032   0033   0034   0035   0036   0037   0038   0039   0040   0041   0042   0043   0044   0045   0046   0047   0048   0049   0050   0051   0052   0053   0054   0055   0056   0057   0058   0059   0060   0061   0062   0063   0064   0065   0066   0067   0068  

符号の説明

0069  

請求の範囲

1   2   3   4   5   6   7   8   9   10   11   12   13   14   15  

図面

1   2   3   4   5   6   7  

明 細 書

発明の名称 : UV光照射装置及びUV光照射方法

技術分野

[0001]
 本発明は、UV光照射装置及びUV光照射方法に関する。

背景技術

[0002]
 工業製品等を製造する際、種々の段階で種々の対象物に対してUV光照射を行うことがある。UV光照射の際には、被照射領域に均一にUV光照射の効果が及ぶことが求められる。

先行技術文献

特許文献

[0003]
特許文献1 : 日本国公開特許公報「特開2014-80348号公報」(2014年5月8日公開)

発明の概要

発明が解決しようとする課題

[0004]
 本発明は、被照射領域に均一にUV光照射の効果を及ぼすことを課題とする。

課題を解決するための手段

[0005]
 本発明の一態様に係るUV光照射装置は、
 ステージと支持ピンとUV光源とを備えるUV光照射装置であって、
 上記支持ピンは、被照射体にUV光を照射する際、上記ステージから上記被照射体を離間させるよう支持し、
 上記支持ピンの先端部と上記ステージの表面との、UV光に対する反射率の差が1%以下である。
[0006]
 本発明の一態様に係るUV光照射装置は、
 ステージと支持ピンとUV光源とを有するUV光照射装置であって、
 上記支持ピンは、被照射体にUV光を照射する際、上記ステージから上記被照射体を離間させるよう支持し、上記被照射体が上記支持ピンに対して位置を変えることが可能なように構成されている。
[0007]
 本発明の一態様に係るUV光照射方法は、
 被照射体にUV光を照射するUV光照射方法であって、
 上記被照射体を、支持ピン又はステージに配置する工程と、
 上記被照射体を上記ステージから離間させ、上記支持ピンで支持する工程と、
 上記被照射体を上記ステージから離間させた状態で、上記被照射体を上記支持ピンに対して動かしながらUV光を照射する工程とを有する。

発明の効果

[0008]
 本発明の一態様によれば、被照射領域の均一にUV光照射の効果を及ぼすことができる。

図面の簡単な説明

[0009]
[図1] 実施形態1のUV光照射装置の概要を示す図である。
[図2] 実施形態1の他の構成のUV光照射装置の概要を示す図である。
[図3] 実施形態2のUV光照射装置の概要を示す図である。
[図4] 実施形態2の支持ピンの概要を示す図である。
[図5] 実施形態3のUV光照射装置の概要を示す図である。
[図6] 他の構成の支持ピンの概要を示す図である。
[図7] 従来のUV光照射装置の概要を示す図である。

発明を実施するための形態

[0010]
 (従来のUV光照射装置)
 本発明の実施形態の説明の前に、従来のUV光照射装置について説明する。本発明の理解を容易にするためである。
[0011]
 図7は従来のUV光照射装置100の概略構成を示す図である。図7では、被照射体150の被照射領域152にUV光(矢印A)を照射する様子を示している。
[0012]
 (UV光照射装置の使用例)
 なお、UV光照射装置は、種々の製品の製造工程において用いることができる。その一例としては、表示素子、特にはフレキシブル表示素子の製造工程が挙げられる。フレキシブル表示素子の一例としては、有機ELディスプレイが挙げられる。
[0013]
 有機ELディスプレイの製造工程においては、UV光の被照射体として平板状の光透過性基板が例示できる。この光透過性基板には、光硬化性の樹脂が例えばインクジェット塗布により塗布される。そして、この光硬化性の樹脂の硬化にUV光照射装置が用いられる。有機ELディスプレイにおいては、かかる樹脂の硬化により、例えば封止膜が形成される。
[0014]
 (工程)
 UV光照射装置100は、ステージ110と支持ピン120とUV光源140とを備えている。支持ピン120は、ステージ110に対して上下方向に可動に設けられている。ここで上方向とは、ステージ110からUV光源140に向かう方向を指す。支持ピン110は、上下方向に動くことにより、ステージ110から突出したり、ステージ110の内部に格納されたりする。例えば、被照射体150をUV光照射装置100に配置する際には、支持ピン110はステージ110の内部に格納されている。これにより、ステージ110の表面112に突起がない状態で、被照射体150をステージ110に配置することができる。例えば上述の有機ELディスプレイの製造工程においては、ロボットハンドによって、有機ELディスプレイとなる光透過性基板が被照射体150としてステージ110に載置される。なお、この光透過性基板には、予め光硬化性樹脂が塗布されている。
[0015]
 次に、被照射体150にUV光を照射する。この照射に先立ち、支持ピン120を、ステージ110から上方に突出させる。これにより、被照射体150の下面とステージ110の表面112とが離間し、被照射体150とステージ110との間に間隔がある状態で、被照射体150に対してUV光が照射される。
[0016]
 ここで、被照射体150をステージ110から浮かせるのは、熱ムラを防ぐためである。ステージ110と被照射体150が接触していると熱ムラが発生し、光硬化性の樹脂の仕上がり(膜厚等)が悪くなるのである。これを抑制するために、支持ピン120を用いて光照射体150をステージ110から浮かせている。
[0017]
 従来のUV光照射装置100によるUV光の照射には、被照射領域152に均一にUV光照射の効果が及びにくいとの問題がある。具体的には、被照射体150の被照射領域152内に、UV光照射の効果が弱い部分又は強い部分である、ムラ部分154が生じやすい。
[0018]
 このムラ部分15は、被照射領域152のなかで、支持ピン120に対応する箇所に生じやすい。これは、支持ピン120と、ステージ110の表面112とのUV光に対する反射率の差に起因する。
[0019]
 一方、被照射体150が光透過性を有する基板である場合には、光硬化性樹脂には、ステージ150で反射されたUV光が照射される。つまり、透明性の被照射体150の裏面からも光硬化性樹脂にUV光が届くという状態であった。ここで支持ピン120がある部分とない部分で、被照射体150の裏面からの照射されるUV光に差が生まれ、これが問題となった。なお、支持ピン120の数は被照射体150の大きさによって決まる。
[0020]
 図7に示すように、支持ピン120は、ピン幹部128と支持ピン120の先端部であるピン先端部122とを備えている。ここで先端部122は、一般にPEEK(ポリエーテル・エーテル・ケトン)樹脂やPSF(ポリサルフォン)樹脂などで形成されている。
[0021]
 一方、ステージ110の表面112には、一般に黒メッキ等の反射防止加工が施されている。
[0022]
 ここで、PEEK樹脂やPSF樹脂等の樹脂と、黒メッキ等の反射防止加工とでは、UV光に対する反射率が異なる。そのため、被照射領域152において、支持ピン120に対応する部分へのUV光の照射量と、他の部分への照射量とが異なり、ムラ部分154が生じる。
[0023]
 例えば、被照射体150に塗布された樹脂をUV光照射により硬化させる場合、ムラ部分154では、他の部分と樹脂の硬化率が相違し、ひいては樹脂の膜厚が異なっている。
[0024]
 (実施形態1)
 ここで、本発明の実施形態1のUV光照射装置1について、図1に基づいて説明する。図1は、本発明の実施形態1のUV光照射装置1の概要を示す図である。
[0025]
 図1に示すUV光照射装置1では、ステージ10と支持ピン20とが同一の材料で形成されている。そのため、被照射体50の被照射領域52において、被照射体50の下方に、UV光源40から出射されたUV光(A)に対して反射率の異なる部分が存在しない。よって、ムラ部分154の発生を抑制することができる。
[0026]
 (他の構成)
 次に、実施形態1のUV光照射装置1の他の構成について、図2に基づいて説明する。図2は、実施形態1の他の構成のUV光照射装置1の概要を示す図である。
[0027]
 先の説明では、ステージ10と支持ピン20とが同一の材料で形成されている構成例について説明した。ただし、ステージ10と支持ピン20とは、必ずしも同一の材料で形成されている必要はない。ステージ10と支持ピン20とで、被照射体50に対面する表面のUV光に対する反射率が近ければよい。以下、その一例を説明する。
[0028]
 図2に示すUV光照射装置1では、支持ピン10が、ピン幹部28とピン先端部22とに分かれている。ピン先端部22は、支持ピン10において被照射体50と接する部分の近傍部分である。
[0029]
 通常、ステージ10は、反射防止を目的として、その表面に黒メッキ加工等の表面処理が施されている。図2に示すUV光照射装置1では、ピン先端部22に、ステージ10に施されている表面処理と同様の表面処理が施されている。これにより、ステージ10と支持ピン20とで、被照射体50に対面する表面のUV光に対する反射率が同じになっている。そのため、被照射体50の被照射領域52において、被照射体50の下方に反射率の異なる部分が存在しない。よって、ムラ部分154の発生を抑制することができる。
[0030]
 なお、支持ピン10に施す表面処理の対象は、ピン先端部22に限定する必要はなく、ピン幹部28を含めた支持ピン10の全体としても良い。
[0031]
 また、ステージ10と支持ピン20とで、各々の被照射体50に対面する表面のUV光に対する反射率が同じである必要はなく、例えばその差が1%以下であれば良い。
[0032]
 (実施形態2)
 次に、本発明の実施形態2のUV光照射装置1について、図3に基づいて説明する。図3は、本発明の実施形態2のUV光照射装置1の概要を示す図である。
[0033]
 実施形態2のUV光照射装置1が実施形態1のUV光照射装置1と異なる点は、支持ピン20の上に配置された被照射体50が、被照射体50の平面方向に可動である点である。具体的には、支持ピン20のピン先端部22にボールが設けられている。このボールは、支持ピン20の上に配置された被照射体50を動きやすくするためのものである。また、支持ピン20上の被照射体50を動かすための被照射体移動部が設けられている。
[0034]
 (ピン先端部)
 実施形態2の支持ピン20について、図4に基づいて説明する。図4は、実施形態2の支持ピン20の概要を示す図である。
[0035]
 支持ピン20の先端部であるピン先端部22には、その上に配置される被照射体50が動きやすいようにボールが備えられている。具体的には、ピン先端部22には、ボール受け24と補助ボール25とメインボール26とが備えられている。ボール受け24は、補助ボール25及びメインボール26の台座として機能し、略半球形状にくり抜かれた構造を有している。ボール受け24には、先ず小径の補助ボール25が複数個配置されており、補助ボール25の上に、1個のメインボール26が配置されている。径の異なるボールが2段に配置されていることで、メインボール26はより滑らかに回転することができる。
[0036]
 (被照射体移動部)
 実施形態2のUV光照射装置1には、図3に示すように、第1被照射体移動部30及び第2被照射体移動部32が設けられている。詳しくは、被照射体移動部は、被照射体50に対して左右方向(矢印Bの方向)及び前後方向(矢印Cの方向)に2つずつ設けられている。すなわち、被照射体50の4辺に対して、各々、被照射体移動部が設けられている。そして、第1被照射体移動部30及び第2被照射体移動部32は、それぞれ左右方向(矢印Bの方向)、前後方向(矢印Cの方向)に可動である。この構成では、被照射体50を右方向に動かすときには、一方の被照射体移動部が被照射体50を押し、反対に被照射体50を左方向に動かすときには、他方の被照射体移動部が被照射体50を押す。この構成では、被照射体移動部の先端部は、被照射体50に当接するだけでよい。すなわち、4本のアーム(被照射体移動部)で上下左右方向に被照射体50を移動させることができる。
[0037]
 これにより、第1被照射体移動部30又は/及び第2被照射体移動部32が動くことで、被照射体50も、支持ピン20上で、左右方向又は/及び前後方向に動く。
[0038]
 (作用)
 被照射体50をステージ10又は支持ピン20の上に配置した後、被照射体50を支持ピン20で支持した状態で被照射体50にUV光(矢印A)を照射する際、被照射体50は一定位置に固定されず、移動(微動)させられる。具体的には、第1被照射体移動部30又は/及び第2被照射体移動部32を動かすことにより、被照射体50を動かす。その際、支持ピン20にメインボール26等が設けられているため、被照射体50は支持ピン20の上で滑らかに動く。
[0039]
 また、UV光を照射する際に被照射体50を動かすことで、支持ピン20が被照射体50に接触する位置を変化させることができる。これにより、支持ピン20とステージ10とにUV光に対する反射率に差があっても、UV光照射の強弱に起因するムラ部分が生じ難くなる。これは、支持ピン20の影響が一か所に固定されず、その影響が分散されるためである。
[0040]
 (他の構成)
 なお、被照射体移動部の構成は、図3に示した構成の他にも考えられる。
[0041]
 例えば、図3に示した構成では、被照射体50は左右及び前後の2方向に移動可能であった。この被照射体50の移動は、1方向にすることも可能である。この場合には、被照射体移動部は、第1被照射体移動部30又は第2被照射体移動部32の何れか一方でよい。
[0042]
 また、図3に示した構成では、被照射体移動部が4つ設けられていた。この被照射体移動部は、1つとすることもできる。この構成では、例えば被照射体移動部の先端部が被照射体50を左右方向(矢印Bの方向)及び前後方向(矢印Cの方向)の両方に移動させることができるように、被照射体移動部をロボットアームのように構成することが考えられる。
[0043]
 (実施形態3)
 次に、本発明の実施形態3のUV光照射装置1について、図5に基づいて説明する。図5は、本発明の実施形態3のUV光照射装置1の概要を示す図である。
[0044]
 実施形態3のUV光照射装置1が実施形態2のUV光照射装置1と異なる点は、支持ピン20の先端に、ボールではなく気体吹き出し口34が設けられている点である。具体的には、実施形態2では、被照射体50と支持ピン20とがボールを介して接していた。これに対して実施形態3では、気体吹き出し口34から噴き出した気体により、被照射体50は、支持ピン20の上方に浮いている。
[0045]
 (ピン先端部)
 実施形態3の支持ピン20について、図5に基づいて説明する。図5は、実施形態3のUV光照射装置1の概要を示す図である。
[0046]
 支持ピン20の先端部には、気体吹き出し口34が設けられている。この気体吹き出し口34からは、窒素ガス等の気体が吹き出し可能である。気体吹き出し口34から気体を噴出させることで、被照射体50を支持ピン20の上方に浮上させることができる。被照射体50と支持ピン20とを非接触とすることで、支持ピン20の上で(上方で)、被照射体50を動かしやすくすることができる。
[0047]
 (作用)
 被照射体50をステージ10又は支持ピン20の上に配置した後、被照射体50を支持ピン20で支持した状態で被照射体50にUV光(矢印A)を照射する際、被照射体50は一定位置に固定されず、移動(微動)させられる。具体的には、第1被照射体移動部30又は/及び第2被照射体移動部32を動かすことにより、被照射体50を動かす。その際、支持ピン20に気体吹き出し口34が設けられているため、吹き出した気体により被照射体50と支持ピン20とを非接触とすることができる。そのため、被照射体50を滑らかに滑かすことができる。
[0048]
 また、UV光を照射する際に被照射体50を動かすことで、支持ピン20が被照射体50に接触する位置を変化させることができる。これにより、支持ピン20とステージ10とにUV光に対する反射率に差があっても、UV光照射の強弱に起因するムラ部分が生じ難くなる。これは、支持ピン20の影響が一か所に固定されず、その影響が分散されるためである。
[0049]
 (被照射体駆動部)
 被照射体移動部の構成は、図5に示した構成をとすることができる。図5に示した被照射体移動部の構成は、実施形態2において図3に示した構成と同様であるので、ここでの説明は省略する。
[0050]
 また、被照射体移動部の構成は図3に示す構成に限られない。例えば、実施形態3で説明した他の構成の被照射体移動部を適用することも可能である。
[0051]
 (適用製品の例示)
 本実施形態のUV光照射装置10は、種々の製品の製造工程において用いることができる。例えば、表示素子、特にはフレキシブル表示素子の製造工程においても用いることができる。この表示素子には電流によって輝度や透過率が制御される発光素子があり、具体例としは、OLED(Organic Light Emitting Diode:有機発光ダイオード)を備えた有機EL(Electro Luminescence:エレクトロルミネッセンス)ディスプレイ、無機発光ダイオードを備えた無機ELディスプレイ等のELディスプレイ、及びQLED(Quantum dot Light Emitting Diode:量子ドット発光ダイオード)を備えたQLEDディスプレイがある。
[0052]
 (組み合わせ等)
 なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
[0053]
 例えば、支持ピン20の他の構成を表す図6に示されるように、支持ピン20の先端に気体吹き出し口34を設けると共に、ボールを配置することも可能である。具体的には、補助ボール25を気体吹き出し口34とメインボール26との間に複数個配置する。そして、気体吹き出し口34から吹き出した気体により補助ボール25を回転させる。この補助ボール25の回転によりメインボール26が回転し、被照射体50が支持ピン20に対して動くことを容易にする構成が考えられる。
[0054]
 (まとめ)
 本発明の態様1に係るUV光照射装置は、
 ステージと支持ピンとUV光源とを備えるUV光照射装置であって、
 上記支持ピンは、被照射体にUV光を照射する際、上記ステージから上記被照射体を離間させるよう支持し、
 上記支持ピンの先端部と上記ステージの表面との、UV光に対する反射率の差が1%以下である。
[0055]
 本発明の態様2に係るUV光照射装置は、
 上記先端部と上記表面とが、同じ材料で形成されている。
[0056]
 本発明の態様3に係るUV光照射装置は、
 上記先端部と上記表面とに、同種類の表面加工が施されている。
[0057]
 本発明の態様4に係るUV光照射装置は、
 上記表面加工が、黒メッキによる反射防止加工である。
[0058]
 本発明の態様5に係るUV光照射装置は、
 上記支持ピンは、上記被照射体が上記支持ピンに対して位置を変えることが可能なように構成されている。
[0059]
 本発明の態様6に係るUV光照射装置は、
 ステージと支持ピンとUV光源とを有するUV光照射装置であって、
 上記支持ピンは、被照射体にUV光を照射する際、上記ステージから上記被照射体を離間させるよう支持し、上記被照射体が上記支持ピンに対して位置を変えることが可能なように構成されている。
[0060]
 本発明の態様7に係るUV光照射装置は、
 上記支持ピンの先端部には、上記被照射体と接すると共に回転が可能なボールが備えられている。
[0061]
 本発明の態様8に係るUV光照射装置は、
 上記支持ピンの先端部には、気体の吹き出し口が設けられており、上記気体を介して、上記支持ピンと上記被照射体とを非接触にすることが可能である。
[0062]
 本発明の態様9に係るUV光照射装置は、
 上記支持ピンに支持された上記被照射体の位置を変える被照射体移動部が備えられている。
[0063]
 本発明の態様10に係るUV光照射装置は、
 上記被照射体が、光透過性基板である。
[0064]
 本発明の態様11に係るUV光照射方法は、
 被照射体にUV光を照射するUV光照射方法であって、
 上記被照射体を、支持ピン又はステージに配置する工程と、
 上記被照射体を上記支持ピンで支持し、上記ステージから離間させる工程と、
 上記被照射体を上記ステージから離間させた状態で、上記被照射体を上記支持ピンに対して動かしながらUV光を照射する。
[0065]
 本発明の態様12に係るUV光照射方法は、
 上記被照射体を動かすために被照射体移動部が設けられており、
 上記支持ピンの先端にはボールが配置されており、
 上記被照射体に上記被照射体移動部から力が加わり、上記被照射体が上記ボールの上で動くことで、上記被照射体が上記支持ピンに対して動く。
[0066]
 本発明の態様13に係るUV光照射方法は、
 上記被照射体を動かすために被照射体移動部が設けられており、
 上記支持ピンの先端には気体吹き出し口が設けられており、
 上記被照射体が、上記気体吹き出し口から吹き出した気体により、上記支持ピンから離れた状態で上記被照射体に上記被照射体移動部から力が加わり、上記支持ピンの上方で動くことで、上記被照射体が上記支持ピンに対して動く。
[0067]
 本発明の態様14に係るUV光照射方法は、
 上記支持ピンの先端には気体吹き出し口が設けられており、
 上記ボールには、メインボールと、上記メインボールよりも径が小さい補助ボールとが含まれており、
 上記補助ボールは、上記気体吹き出し口と上記メインボールとの間に複数個配置されており、
 上記気体吹き出し口から吹き出した気体により上記補助ボールが回転し、
 当該補助ボールの回転により上記メインボールが回転することで、上記被照射体が上記支持ピンに対して動く。
[0068]
 本発明の態様15に係るUV光照射方法は、
 上記被照射体が、光透過性基板である。

符号の説明

[0069]
1     UV光照射装置
10    ステージ
12    表面
20    支持ピン
22    ピン先端部
24    ボール受け
25    補助ボール(ボール)
26    メインボール(ボール)
28    ピン幹部
30    第1被照射体移動部
32    第2被照射体移動部
34    気体吹き出し口
40    UV光源
50    被照射体(光透過性基板)
52    被照射領域
100   UV光照射装置
110   ステージ
112   表面
120   支持ピン
122   ピン先端部
128   ピン幹部
140   UV光源
150   被照射体
152   被照射領域
154   ムラ部分
矢印A   UV光
矢印B   左右方向
矢印C   前後方向

請求の範囲

[請求項1]
 ステージと支持ピンとUV光源とを備えるUV光照射装置であって、
 上記支持ピンは、被照射体にUV光を照射する際、上記ステージから上記被照射体を離間させるよう支持し、
 上記支持ピンの先端部と上記ステージの表面との、UV光に対する反射率の差が1%以下であるUV光照射装置。
[請求項2]
 上記先端部と上記表面とが、同じ材料で形成されている請求項1に記載のUV光照射装置。
[請求項3]
 上記先端部と上記表面とに、同種類の表面加工が施されている請求項1又は2に記載のUV光照射装置。
[請求項4]
 上記表面加工が、黒メッキによる反射防止加工である請求項3に記載のUV光照射装置。
[請求項5]
 上記支持ピンは、上記被照射体が上記支持ピンに対して位置を変えることが可能なように構成されている請求項1から4の何れか1項に記載のUV光照射装置。
[請求項6]
 ステージと支持ピンとUV光源とを有するUV光照射装置であって、
 上記支持ピンは、被照射体にUV光を照射する際、上記ステージから上記被照射体を離間させるよう支持し、上記被照射体が上記支持ピンに対して位置を変えることが可能なように構成されているUV光照射装置。
[請求項7]
 上記支持ピンの先端部には、上記被照射体と接すると共に回転が可能なボールが備えられている請求項6に記載のUV光照射装置。
[請求項8]
 上記支持ピンの先端部には、気体の吹き出し口が設けられており、上記気体を介して、上記支持ピンと上記被照射体とを非接触にすることが可能である請求項6に記載のUV光照射装置。
[請求項9]
 上記支持ピンに支持された上記被照射体の位置を変える被照射体移動部が備えられている請求項1から8の何れか1項に記載のUV光照射装置。
[請求項10]
 上記被照射体が、光透過性基板である請求項1から9の何れか1項に記載のUV光照射装置。
[請求項11]
 被照射体にUV光を照射するUV光照射方法であって、
 上記被照射体を、支持ピン又はステージに配置する工程と、
 上記被照射体を上記支持ピンで支持し、上記ステージから離間させる工程と、
 上記被照射体を上記ステージから離間させた状態で、上記被照射体を上記支持ピンに対して動かしながらUV光を照射する工程とを有するUV光照射方法。
[請求項12]
 上記被照射体を動かすために被照射体移動部が設けられており、
 上記支持ピンの先端にはボールが配置されており、
 上記被照射体に上記被照射体移動部から力が加わり、上記被照射体が上記ボールの上で動くことで、上記被照射体が上記支持ピンに対して動く請求項11に記載のUV光照射方法。
[請求項13]
 上記被照射体を動かすために被照射体移動部が設けられており、
 上記支持ピンの先端には気体吹き出し口が設けられており、
 上記被照射体が、上記気体吹き出し口から吹き出した気体により、上記支持ピンから離れた状態で上記被照射体に上記被照射体移動部から力が加わり、上記支持ピンの上方で動くことで、上記被照射体が上記支持ピンに対して動く請求項11に記載のUV光照射方法。
[請求項14]
 上記支持ピンの先端には気体吹き出し口が設けられており、
 上記ボールには、メインボールと、上記メインボールよりも径が小さい補助ボールとが含まれており、
 上記補助ボールは、上記気体吹き出し口と上記メインボールとの間に複数個配置されており、
 上記気体吹き出し口から吹き出した気体により上記補助ボールが回転し、
 当該補助ボールの回転により上記メインボールが回転することで、上記被照射体が上記支持ピンに対して動く請求項12に記載のUV光照射方法。
[請求項15]
 上記被照射体が、光透過性基板である請求項11から14の何れか1項に記載のUV光照射方法。

図面

[ 図 1]

[ 図 2]

[ 図 3]

[ 図 4]

[ 図 5]

[ 図 6]

[ 図 7]