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1. (WO2019063561) PROCÉDÉS ET APPAREILS DE PRÉ-CHARGEMENT D'ÉCHANTILLON POUR INSPECTION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
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N° de publication : WO/2019/063561 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/075996
Date de publication : 04.04.2019 Date de dépôt international : 25.09.2018
CIB :
H01J 37/02 (2006.01) ,H01J 37/04 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02
Détails
04
Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
J
TUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37
Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26
Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
28
avec faisceaux de balayage
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
LIU, Xuedong; US
XI, Qingpo; US
JIANG, Youfei; US
REN, Weiming; US
HU, Xuerang; US
CHEN, Zhongwei; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/566,15329.09.2017US
Titre (EN) SAMPLE PRE-CHARGING METHODS AND APPARATUSES FOR CHARGED PARTICLE BEAM INSPECTION
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREILS DE PRÉ-CHARGEMENT D'ÉCHANTILLON POUR INSPECTION DE FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
Abrégé :
(EN) Disclosed herein is an apparatus comprising: a source of charged particles configured to emit a beam of charged particles along a primary beam axis of the apparatus; a condenser lens configured to cause the beam to concentrate around the primary beam axis; an aperture; a first multi-pole lens; a second multi-pole lens; wherein the first multi-pole lens is downstream with respect to the condenser lens and upstream with respect to the second multi-pole lens; wherein the second multi-pole lens is downstream with respect to the first multi-pole lens and upstream with respect to the aperture.
(FR) Cette invention concerne un appareil comprenant : une source de particules chargées configurée pour émettre un faisceau de particules chargées le long d'un axe de faisceau primaire de l'appareil ; une lentille condensatrice configurée pour amener le faisceau à se concentrer autour de l'axe de faisceau primaire ; une ouverture ; une première lentille multipolaire ; une seconde lentille multipolaire, la première lentille multipolaire étant en aval par rapport à la lentille condensatrice et en amont par rapport à la seconde lentille multipolaire, la seconde lentille multipolaire étant en aval par rapport à la première lentille multipolaire et en amont par rapport à l'ouverture.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)