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1. (WO2019049919) PLAQUE POUR PHOTOMASQUE, PHOTOMASQUE, PROCÉDÉ D'EXPOSITION À LA LUMIÈRE ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE PRODUIRE UN DISPOSITIF
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N° de publication : WO/2019/049919 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/032984
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 06.09.2018
CIB :
G03F 1/58 (2012.01) ,B32B 15/04 (2006.01) ,C03C 15/00 (2006.01) ,C03C 17/36 (2006.01) ,G03F 1/38 (2012.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
54
Absorbeurs, p.ex. en matériau opaque
58
avec plusieurs couches diverses d'absorbeur, p.ex. absorbeur en empilement multicouche
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
15
Produits stratifiés composés essentiellement de métal
04
comprenant un métal comme seul composant ou comme composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
03
VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
C
COMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, SUBSTANCES MINÉRALES OU SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
15
Traitement de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par attaque chimique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
03
VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
C
COMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, SUBSTANCES MINÉRALES OU SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
17
Traitement de surface du verre dévitrifié, autre que sous forme de fibres ou de filaments, par revêtement
34
avec au moins deux revêtements ayant des compositions différentes
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un revêtement au moins étant un métal
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
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Masques à caractéristiques supplémentaires, p.ex. marquages pour l'alignement ou les tests, ou couches particulières; Leur préparation
Déposants :
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventeurs :
小澤 隆仁 OZAWA, Takashi; JP
寶田 庸平 TAKARADA, Yohei; JP
林 賢利 HAYASHI, Kento; JP
八神 高史 YAGAMI, Takashi; JP
Mandataire :
永井 冬紀 NAGAI, Fuyuki; JP
白石 直正 SHIRAISHI, Naomasa; JP
Données relatives à la priorité :
2017-17199707.09.2017JP
Titre (EN) PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, LIGHT EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR PRODUCING DEVICE
(FR) PLAQUE POUR PHOTOMASQUE, PHOTOMASQUE, PROCÉDÉ D'EXPOSITION À LA LUMIÈRE ET PROCÉDÉ PERMETTANT DE PRODUIRE UN DISPOSITIF
(JA) フォトマスクブランクス、フォトマスク、露光方法、及び、デバイスの製造方法
Abrégé :
(EN) This photomask blank comprises: a substrate; and at least a first layer and a second layer, which are sequentially arranged from the substrate side. The first layer contains chromium; the second layer contains chromium and oxygen; and the surface of the second layer has an arithmetic mean height of 0.245 nm or more.
(FR) L'invention concerne une plaque pour photomasque qui comprend : un substrat ; et au moins une première couche et une seconde couche, qui sont placées successivement à partir du côté substrat. La première couche contient du chrome ; la seconde couche contient du chrome et de l'oxygène ; et la surface de la seconde couche a une hauteur moyenne arithmétique de 0,245 nm ou plus.
(JA) フォトマスクブランクスは、基板と、前記基板側から順に少なくとも第1の層および第2の層を有するフォトマスクブランクスであって、前記第1の層は、クロムを含有し、前記第2の層は、クロムと酸素とを含有し、前記第2の層の表面の算術平均高さが0.245nm以上である。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)