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1. (WO2019048221) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR ANALYSER UN GAZ
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N° de publication : WO/2019/048221 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/072401
Date de publication : 14.03.2019 Date de dépôt international : 20.08.2018
CIB :
G01N 27/12 (2006.01) ,G01N 33/00 (2006.01) ,G01N 27/14 (2006.01)
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
27
Recherche ou analyse des matériaux par l'emploi de moyens électriques, électrochimiques ou magnétiques
02
en recherchant l'impédance
04
en recherchant la résistance
12
d'un corps solide dépendant de l'absorption d'un fluide; d'un corps solide dépendant de la réaction avec un fluide
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
33
Recherche ou analyse des matériaux par des méthodes spécifiques non couvertes par les groupes G01N1/-G01N31/146
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
27
Recherche ou analyse des matériaux par l'emploi de moyens électriques, électrochimiques ou magnétiques
02
en recherchant l'impédance
04
en recherchant la résistance
14
d'un corps chauffé électriquement dépendant de variations de température
Déposants :
ROBERT BOSCH GMBH [DE/DE]; Postfach 30 02 20 70442 Stuttgart, DE
Inventeurs :
NOLTE, Philipp; DE
BRUESER, Christoph; DE
MARTINEZ PRADA, Maria; DE
CLAUS, Thomas; DE
Données relatives à la priorité :
10 2017 215 529.905.09.2017DE
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR ANALYSING A GAS
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR ANALYSER UN GAZ
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM ANALYSIEREN EINES GASES
Abrégé :
(EN) The invention relates to a method for analysing a gas, in which a sensitive layer (2) containing metal oxide is exposed to the gas, comprising the steps of: reducing the temperature of the sensitive layer (2) from a first temperature (T1) to a second temperature (T2), the temperature of the sensitive layer (2) being kept substantially at the second temperature for a predetermined time period (D2); increasing the temperature of the sensitive layer (2) to a third temperature (T3), measuring at least one electrical resistance value of the sensitive layer (2), whilst the sensitive layer (2) exhibits substantially the third temperature; and analysing components of the gas by means of the measured at least one electrical resistance value.
(FR) La présente invention concerne un procédé pour analyser un gaz, une couche sensible (2) contenant un oxyde métallique étant exposée au gaz, comprenant les étapes consistant à : diminuer la température de la couche sensible (2) pour passer d'une première température (T1) à une deuxième température (T2), la température de la couche sensible (2) étant maintenue sensiblement à la deuxième température pendant une période prédéterminée (D2) ; augmenter la température de la couche sensible (2) jusqu'à une troisième température (T3) ; mesurer au moins une valeur de résistance électrique de la couche sensible (2) tandis que la couche sensible (2) présente sensiblement la troisième température ; et analyser les composants du gaz d'après la ou les valeurs de résistance électrique mesurées.
(DE) Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Analysieren eines Gases, wobei eine sensitive metalloxidhaltige Schicht (2) dem Gas ausgesetzt wird, mit den Schritten: Verringern der Temperatur der sensitiven Schicht (2) von einer ersten Temperatur (T1) auf eine zweite Temperatur (T2), wobei die Temperatur der sensitiven Schicht (2) für einen vorgegebenen Zeitraum (D2) im Wesentlichen bei der zweiten Temperatur gehalten wird; Erhöhen der Temperatur der sensitiven Schicht (2) auf eine dritte Temperatur (T3); Messen von mindestens einem elektrischen Widerstandswert der sensitiven Schicht (2), während die sensitive Schicht (2) im Wesentlichen die dritte Temperatur aufweist; und Analysieren von Komponenten des Gases anhand des gemessenen mindestens einen elektrischen Widerstandswertes.
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)