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1. (WO2019044840) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT ÉQUIPÉ D'UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, SUBSTRAT ÉQUIPÉ D'UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, ET CELLULE SOLAIRE
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N° de publication : WO/2019/044840 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/031781
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 28.08.2018
CIB :
H01B 13/00 (2006.01) ,B23K 26/00 (2014.01) ,B23K 26/351 (2014.01) ,B32B 7/02 (2006.01) ,B32B 38/18 (2006.01) ,H01B 5/14 (2006.01) ,H05K 3/08 (2006.01) ,H01L 31/0224 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
B
CÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
13
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de conducteurs ou câbles
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23
MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
K
BRASAGE OU DÉBRASAGE; SOUDAGE; REVÊTEMENT OU PLACAGE PAR BRASAGE OU SOUDAGE; DÉCOUPAGE PAR CHAUFFAGE LOCALISÉ, p.ex. DÉCOUPAGE AU CHALUMEAU; TRAVAIL PAR RAYON LASER
26
Travail par rayon laser, p.ex. soudage, découpage, perçage
[IPC code unknown for B23K 26/351]
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
7
Produits stratifiés caractérisés par la relation entre les couches, c. à d. produits comprenant essentiellement des couches ayant des propriétés physiques différentes, ou produits caractérisés par la jonction entre couches
02
en ce qui concerne les propriétés physiques, p.ex. la dureté
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
38
Opérations auxiliaires liées aux procédés de stratification
18
Manipulation des couches ou du stratifié
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
B
CÂBLES; CONDUCTEURS; ISOLATEURS; EMPLOI DE MATÉRIAUX SPÉCIFIÉS POUR LEURS PROPRIÉTÉS CONDUCTRICES, ISOLANTES OU DIÉLECTRIQUES
5
Conducteurs ou corps conducteurs non isolés caractérisés par la forme
14
comprenant des couches ou pellicules conductrices sur supports isolants
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
3
Appareils ou procédés pour la fabrication de circuits imprimés
02
dans lesquels le matériau conducteur est appliqué à la surface du support isolant et est ensuite enlevé de zones déterminées de la surface, non destinées à servir de conducteurs de courant ou d'éléments de blindage
08
Elimination du matériau conducteur par décharge électrique, p.ex. par érosion par étincelles
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
31
Dispositifs à semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes, ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de ces dispositifs ou de leurs parties constitutives; Leurs détails
02
Détails
0224
Electrodes
Déposants :
古河電気工業株式会社 FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 2-3, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008322, JP
Inventeurs :
岩間 真木 IWAMA, Masaki; JP
Mandataire :
特許業務法人酒井国際特許事務所 SAKAI INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区霞が関3丁目8番1号 虎の門三井ビルディング Toranomon Mitsui Building, 8-1, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000013, JP
Données relatives à la priorité :
2017-16474329.08.2017JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE EQUIPPED WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, SUBSTRATE EQUIPPED WITH TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, AND SOLAR CELL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT ÉQUIPÉ D'UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, SUBSTRAT ÉQUIPÉ D'UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, ET CELLULE SOLAIRE
(JA) 透明導電膜付基板の製造方法、透明導電膜付基板及び太陽電池
Abrégé :
(EN) Provided is a method for manufacturing a substrate equipped with a transparent conductive film, wherein a sub-nanosecond to nanosecond laser beam is emitted on a transparent conductive film formed on the surface of a substrate so as to form a laser-induced periodic surface structure having a protruding and recessed shape in at least a portion of the transparent conductive film. Preferably, the fluence of the sub-nanosecond to nanosecond laser beam is controlled such that at least a portion of the sub-nanosecond to nanosecond laser beam has a fluence value that falls between a fluence with which it is possible to remove the transparent conductive film and a fluence with which it is impossible to remove the transparent conductive film.
(FR) Cette invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat équipé d'un film conducteur transparent. Selon ledit procédé, un faisceau laser à impulsions de l'ordre sous-nanoseconde à nanoseconde est émis sur un film conducteur transparent formé sur la surface d'un substrat de manière à former une structure de surface périodique induite par laser ayant une forme à saillies et à évidements dans au moins une partie du film conducteur transparent. De préférence, la fluence du faisceau laser à impulsions de l'ordre sous-nanoseconde à nanoseconde est commandée de telle sorte qu'au moins une partie du faisceau laser à impulsions de l'ordre sous-nanoseconde à nanoseconde a une valeur de fluence qui se situe entre une fluence avec laquelle il est possible d'éliminer le film conducteur transparent et une fluence avec laquelle il est impossible d'éliminer le film conducteur transparent.
(JA) 透明導電膜付基板の製造方法であって、サブナノ-ナノ秒レーザ光を、基板の表面に形成された透明導電膜に照射して、前記透明導電膜の少なくとも一部に、凹凸形状のレーザ誘起周期表面構造を形成する。好ましくは、前記透明導電膜での照射面における、前記サブナノ-ナノ秒レーザ光のビームの少なくとも一部が、前記透明導電膜を除去できるフルエンスと前記透明導電膜を除去できないフルエンスとの間の値となるように、前記サブナノ-ナノ秒レーザ光のフルエンスを制御する。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)