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1. (WO2019044793) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ SILSESQUIOXANE
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N° de publication : WO/2019/044793 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/031655
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 28.08.2018
CIB :
C07F 7/21 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
F
COMPOSÉS ACYCLIQUES, CARBOCYCLIQUES OU HÉTÉROCYCLIQUES CONTENANT DES ÉLÉMENTS AUTRES QUE LE CARBONE, L'HYDROGÈNE, LES HALOGÈNES, L'OXYGÈNE, L'AZOTE, LE SOUFRE, LE SÉLÉNIUM OU LE TELLURE
7
Composés contenant des éléments du 4ème groupe de la classification périodique
02
Composés du silicium
21
Composés cycliques ayant au moins un cycle comportant du silicium mais sans carbone dans le cycle
Déposants :
日立化成株式会社 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606, JP
Inventeurs :
田中 徹 TANAKA Tooru; JP
海野 雅史 UNNO Masafumi; JP
Mandataire :
三好 秀和 MIYOSHI Hidekazu; JP
高橋 俊一 TAKAHASHI Shunichi; JP
伊藤 正和 ITO Masakazu; JP
高松 俊雄 TAKAMATSU Toshio; JP
Données relatives à la priorité :
2017-16328528.08.2017JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING SILSESQUIOXANE COMPOUND
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN COMPOSÉ SILSESQUIOXANE
(JA) シルセスキオキサン化合物の製造方法
Abrégé :
(EN) Provided is a method for manufacturing a silsesquioxane compound, comprising manufacturing a silsesquioxane compound represented by general formula (III), the method having a step for reacting a compound represented by general formula (I) and a compound represented by general formula (II). In general formulas (I) through (III): R1 and R2 each independently represent hydrogen, a C1-8 alkyl group, a C6-14 aryl group, an aminoalkyl group, an amino-group-containing group, a nitrile-group-containing group, a vinyl-group-containing group, a (meth)acryloyl-group-containing group, a chloro-group-containing group, a bromo-group-containing group, or a functional group including a boron trifluoride complexed amino group; R3 through R10 each independently represent a C1-8 alkyl group or a C6-14 aryl group; and M represents at least one type of element selected from the group consisting of hydrogen, lithium, sodium, and potassium.
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un composé silsesquioxane, comprenant la fabrication d'un composé silsesquioxane représenté par la formule générale (III), le procédé comprenant une étape consistant à faire réagir un composé représenté par la formule générale (I) et un composé représenté par la formule générale (II). Dans les formules générales (I) à (III) : R1 et R2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle en C1-8, un groupe aryle en C6-14, un groupe aminoalkyle, un groupe contenant un groupe amino, un groupe contenant un groupe nitrile, un groupe contenant un groupe vinyle, un groupe contenant un groupe (méth)acryloyle, un groupe contenant un groupe chloro, un groupe contenant un groupe bromo, ou un groupe fonctionnel comprenant un groupe amino complexé au trifluorure de bore ; R3 à R10 représentent chacun indépendamment un groupe alkyle en C1-8 ou un groupe aryle en C6-14 ; et M représente au moins un type d'élément choisi dans le groupe constitué par l'hydrogène, le lithium, le sodium et le potassium.
(JA) 下記一般式(I)で表される化合物と、下記一般式(II)で表される化合物とを反応させる工程を有し、下記一般式(III)で表されるシルセスキオキサン化合物を製造する、シルセスキオキサン化合物の製造方法を提供する。下記一般式(I)~(III)中、R及びRは、それぞれ独立的に、水素、炭素数1~8のアルキル基、炭素数6~14のアリール基、アミノアルキル基、アミノ基含有基、ニトリル基含有基、ビニル基含有基、(メタ)アクリロイル基含有基、クロロ基含有基、ブロモ基含有基、又は三フッ化ホウ素錯体化アミノ基を含む官能基を表し、R~R10は、それぞれ独立的に、炭素数1~8のアルキル基、又は炭素数6~14のアリール基を表し、Mは、水素、リチウム、ナトリウム、及びカリウムからなる群より選択される少なくとも1種の元素を表す。
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)