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1. (WO2019044277) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILTRE COLORÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE ET FILTRE COLORÉ
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N° de publication : WO/2019/044277 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/027631
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 24.07.2018
CIB :
G02B 5/20 (2006.01) ,G02F 1/1335 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
20
Filtres
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
F
DISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1
Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source de lumière indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01
pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13
basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133
Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333
Dispositions relatives à la structure
1335
Association structurelle de dispositifs optiques, p.ex. de polariseurs, de réflecteurs, avec la cellule
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27
Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
14
comprenant des composants semi-conducteurs sensibles aux rayons infrarouges, à la lumière, au rayonnement électromagnétique d'ondes plus courtes ou au rayonnement corpusculaire, et spécialement adaptés, soit comme convertisseurs de l'énergie dudit rayonnement en énergie électrique, soit comme dispositifs de commande de l'énergie électrique par ledit rayonnement
144
Dispositifs commandés par rayonnement
146
Structures de capteurs d'images
Déposants :
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
Inventeurs :
小泉 宙夢 KOIZUMI Hiromu; JP
尾田 和也 OTA Kazuya; JP
Mandataire :
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
Données relatives à la priorité :
2017-16550430.08.2017JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING SOLID-STATE IMAGING ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING IMAGE DISPLAY DEVICE, AND COLOR FILTER
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILTRE COLORÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGE ET FILTRE COLORÉ
(JA) カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法およびカラーフィルタ
Abrégé :
(EN) The present invention provides a method which is for manufacturing a color filter and with which pattern formability of pixels is good and the generation of residue on another pixel after pixel formation and the generation of color migration between adjacent pixels can be inhibited. The present invention further provides a method for manufacturing a solid-state imaging element, a method for manufacturing an image display device, and a color filter. This method for manufacturing a color filter includes: a step for applying a transparent layer forming composition on the surface of a first pixel 2 formed on a support body 1, and forming a transparent layer 3 having an average thickness of no more than 300 nm; a step for applying a pixel forming composition on the first pixel 2 having the transparent layer 3 formed thereon, and forming a composition layer 4a for pixel formation; and a step for forming a pattern on the composition layer 4a for pixel formation and forming a second pixel 4 having a different color than the first pixel 2.
(FR) La présente invention concerne un procédé qui permet de fabriquer un filtre coloré et au moyen duquel l'aptitude à la formation de motifs de pixels est bonne, la génération de résidus sur un autre pixel après la formation de pixels et la génération de migration de couleur entre des pixels adjacents pouvant être inhibées. La présente invention concerne en outre un procédé de fabrication d'un élément d'imagerie à semi-conducteurs, un procédé de fabrication d'un dispositif d'affichage d'image et un filtre coloré. Ce procédé de fabrication d'un filtre coloré comprend les étapes suivantes : l'application d'une composition de formation de couche transparente sur la surface d'un premier pixel (2) formé sur un corps de support (1), et la formation d'une couche transparente (3) ayant une épaisseur moyenne inférieure ou égale à 300 nm ; l'application d'une composition de formation de pixels sur le premier pixel (2) ayant la couche transparente (3) formée dessus, et la formation d'une couche de composition (4a) destinée à la formation de pixels ; la formation d'un motif sur la couche de composition (4a) destinée à la formation de pixels et la formation d'un second pixel (4) ayant une couleur différente de celle du premier pixel (2).
(JA) 画素のパターン形成性が良好であり、かつ、画素形成後の他の画素上の残渣の発生や、隣接する画素間における色移りの発生を抑制できるカラーフィルタの製造方法を提供する。また、固体撮像素子の製造方法、画像表示装置の製造方法およびカラーフィルタを提供する。このカラーフィルタの製造方法は、支持体1上に形成された第1の画素2の表面に透明層形成用組成物を適用して平均厚さ300nm以下の透明層3を形成する工程と、透明層3が形成された第1の画素2上に画素形成用組成物を適用して画素形成用組成物層4aを形成する工程と、画素形成用組成物層4aに対してパターン形成を行い、第1の画素2とは異なる色の第2の画素4を形成する工程とを含む。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)