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1. (WO2019044175) LENTILLE OPHTALMIQUE ET PROCÉDÉ D’IMAGERIE UTILISANT UNE LENTILLE OPHTALMIQUE
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N° de publication : WO/2019/044175 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/025751
Date de publication : 07.03.2019 Date de dépôt international : 06.07.2018
CIB :
G02C 7/04 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
C
LUNETTES; LUNETTES DE SOLEIL OU LUNETTES PROTECTRICES DANS LA MESURE OÙ LEURS CARACTÉRISTIQUES SONT LES MÊMES QUE CELLES DES LUNETTES; LENTILLES DE CONTACT
7
Pièces optiques
02
Verres; Systèmes de verres
04
Lentilles de contact pour les yeux
Déposants :
株式会社シード SEED CO., LTD. [JP/JP]; 東京都文京区本郷2丁目40番2号 40-2, Hongo 2-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1138402, JP
国立大学法人 筑波大学 UNIVERSITY OF TSUKUBA [JP/JP]; 茨城県つくば市天王台一丁目1番1 1-1, Tennodai 1-chome, Tsukuba-shi, Ibaraki 3058577, JP
Inventeurs :
中村 暁 NAKAMURA Akira; JP
福島 努 FUKUSHIMA Tsutomu; JP
孫 義傑 SUN Yijie; JP
平岡 孝浩 HIRAOKA Takahiro; JP
Mandataire :
特許業務法人つばさ国際特許事務所 TSUBASA PATENT PROFESSIONAL CORPORATION; 東京都新宿区新宿1丁目15番9号さわだビル3階 3F, Sawada Building, 15-9, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Données relatives à la priorité :
2017-16866801.09.2017JP
Titre (EN) OPHTHALMIC LENS AND IMAGING METHOD USING OPHTHALMIC LENS
(FR) LENTILLE OPHTALMIQUE ET PROCÉDÉ D’IMAGERIE UTILISANT UNE LENTILLE OPHTALMIQUE
(JA) 眼用レンズおよび眼用レンズを用いた結像方法
Abrégé :
(EN) An ophthalmic lens according to the present invention is configured to generate a coma aberration and a spherical aberration. The total aberration of the coma aberration and the spherical aberration calculated using Zernike polynomials in an effective optical region of 6 mm is at least 0.3 µm and no more than 2.0 µm.
(FR) Une lentille ophtalmique selon la présente invention est configurée pour générer une aberration de coma et une aberration sphérique. L’aberration totale de l’aberration de coma et de l’aberration sphérique calculée au moyen de polynômes de Zernike dans une région optique efficace de 6 mm est d’au moins 0,3 µm et pas plus de 2,0 µm.
(JA) 本発明の眼用レンズは、コマ収差と球面収差とを発生するように構成され、有効光学領域6mmにおけるゼルニケ多項式より算出されるコマ収差量と球面収差量との合算の収差量が、0.3μm以上2.0μm以下である。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)