Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2019030597) STRUCTURE DE BATTERIE EMPILÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2019/030597 N° de la demande internationale : PCT/IB2018/055599
Date de publication : 14.02.2019 Date de dépôt international : 26.07.2018
CIB :
H01M 10/0583 (2010.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
M
PROCÉDÉS OU MOYENS POUR LA CONVERSION DIRECTE DE L'ÉNERGIE CHIMIQUE EN ÉNERGIE ÉLECTRIQUE, p.ex. BATTERIES
10
Eléments secondaires; Leur fabrication
05
Accumulateurs à électrolyte non aqueux
058
Structure ou fabrication
0583
d'accumulateurs à éléments de structure pliés à l'exception des éléments enroulés, c. à d. des électrodes positives ou négatives pliées ou des séparateurs pliés, p.ex. à électrodes ou séparateurs en forme de Z
Déposants :
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road Armonk, New York 10504, US
IBM UNITED KINGDOM LIMITED [GB/GB]; PO Box 41, North Harbour Portsmouth Hampshire PO6 3AU, GB (MG)
IBM (CHINA) INVESTMENT COMPANY LIMITED [CN/CN]; 25/F, Pangu Plaza No.27, Central North 4th Ring Road, Chaoyang District, Beijing 100101, CN (MG)
Inventeurs :
HORIBE, Akihiro; JP
WATANABE, Takahito; JP
SUEOKA, Kuniaki; JP
Mandataire :
LITHERLAND, David; GB
Données relatives à la priorité :
15/673,81910.08.2017US
Titre (EN) STACKED BATTERY STRUCTURE
(FR) STRUCTURE DE BATTERIE EMPILÉE
Abrégé :
(EN) A technique relating to a battery structure is disclosed. A base substrate and a battery layer having a support substrate are prepared. The battery layer includes a protection layer formed on the support substrate, a film battery element formed on the protection layer and an insulator covering the film battery element. The battery layer is placed onto the base substrate with the bottom of the support substrate facing up. The support substrate is then removed from the battery layer at least in part by etching while protecting the film battery element by the protection layer. A stacked battery structure including the base substrate and the two or more battery layers is also disclosed.
(FR) L'invention concerne une technique associée à une structure de batterie. Un substrat de base et une couche de batterie ayant un substrat de support sont préparés. La couche de batterie comprend une couche de protection formée sur le substrat de support, un élément de batterie à film formé sur la couche de protection et un isolant recouvrant l'élément de batterie à film. La couche de batterie est placée sur le substrat de base, le fond du substrat de support étant tourné vers le haut. Le substrat de support est ensuite retiré de la couche de batterie au moins en partie par gravure tout en protégeant l'élément de batterie à film par la couche de protection. L'invention concerne également une structure de batterie empilée comprenant le substrat de base et les deux ou plus couches de batterie.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)