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1. (WO2018224349) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE MESURE
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N° de publication : WO/2018/224349 N° de la demande internationale : PCT/EP2018/063948
Date de publication : 13.12.2018 Date de dépôt international : 28.05.2018
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
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Exposition; Appareillages à cet effet
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
WANG, Te-Sheng; US
ZHAO, Qian; US
Mandataire :
PETERS, John; NL
Données relatives à la priorité :
62/515,92106.06.2017US
Titre (EN) MEASUREMENT METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE MESURE
Abrégé :
(EN) A method involving obtaining a simulation (710) of a contour of a pattern to be formed on a substrate using a patterning process, determining a location of an evaluation point (740) on the simulated contour (710) of the pattern, the location spatially associated with a location of a corresponding evaluation point (730) on a design layout (700) for the pattern, and producing electronic information corresponding to a spatial bearing between the location of the evaluation point (740) on the simulated contour (710) and the location of the corresponding evaluation point (730) on the design layout (700), wherein the information corresponding to the spatial bearing is configured for determining a location of an evaluation point (760) on a measured image (720) of at least part of the pattern, the evaluation point (760) on the measured image (720) spatially associated with the corresponding evaluation point (730) on the design layout (700).
(FR) La présente invention concerne un procédé comprenant les étapes consistant à : obtenir une simulation (710) d'un contour d'un motif devant être formé sur un substrat à l'aide d'un processus de formation de motif ; déterminer un emplacement d'un point d'évaluation (740) sur le contour simulé (710) du motif, l'emplacement étant associé spatialement à un emplacement d'un point d'évaluation correspondant (730) sur un schéma de conception (700) relatif au motif ; et produire des informations électroniques correspondant à une position spatiale entre l'emplacement du point d'évaluation (740) sur le contour simulé (710) et l'emplacement du point d'évaluation correspondant (730) sur le schéma de conception (700). Les informations correspondant à la position spatiale sont configurées de manière à déterminer un emplacement d'un point d'évaluation (760) sur une image mesurée (720) d'au moins une partie du motif. Le point d'évaluation (760) sur l'image mesurée (720) est associé spatialement au point d'évaluation correspondant (730) sur le schéma de conception (700).
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)