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1. (WO2018222366) DÉPÔT PAR COUCHES ATOMIQUES DE COUCHE INTERFACIALE CONDUCTRICE D'IONS LITHIUM STABLE POUR CYCLAGE DE CATHODE STABLE
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N° de publication : WO/2018/222366 N° de la demande internationale : PCT/US2018/032008
Date de publication : 06.12.2018 Date de dépôt international : 10.05.2018
CIB :
H01M 4/36 (2006.01) ,H01M 4/62 (2006.01) ,H01M 4/525 (2010.01) ,H01M 4/505 (2010.01) ,C23C 16/44 (2006.01) ,C23C 16/30 (2006.01) ,C23C 16/455 (2006.01) ,H01M 4/131 (2010.01)
[IPC code unknown for H01M 4/36][IPC code unknown for H01M 4/62][IPC code unknown for H01M 4/525][IPC code unknown for H01M 4/505][IPC code unknown for C23C 16/44][IPC code unknown for C23C 16/30][IPC code unknown for C23C 16/455][IPC code unknown for H01M 4/131]
Déposants :
THE BOARD OF TRUSTEES OF THE LELAND STANFORD JUNIOR UNIVERSITY [US/US]; Office of the General Counsel Building 170, Third Floor, Main Quad P.O. Box 20386 Stanford, California 94305-2038, US
Inventeurs :
CUI, Yi; US
XIE, Jin; US
Mandataire :
LIU, Cliff Z.; US
DANIELSON, Mark J.; US
ZHANG, Yiming; US
Données relatives à la priorité :
62/513,37631.05.2017US
Titre (EN) ATOMIC LAYER DEPOSITION OF STABLE LITHIUM ION CONDUCTIVE INTERFACIAL LAYER FOR STABLE CATHODE CYCLING
(FR) DÉPÔT PAR COUCHES ATOMIQUES DE COUCHE INTERFACIALE CONDUCTRICE D'IONS LITHIUM STABLE POUR CYCLAGE DE CATHODE STABLE
Abrégé :
(EN) A coated cathode material includes a cathode active material and an interfacial layer coating the cathode active material. The interfacial layer includes a lithium-containing fluoride which includes at least one additional metal different from lithium.
(FR) L'invention concerne un matériau de cathode revêtu comprenant un matériau actif de cathode et une couche interfaciale recouvrant le matériau actif de cathode. La couche interfaciale comprend un fluorure contenant du lithium, contenant au moins un métal supplémentaire différent du lithium.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)