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1. (WO2018218880) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU, SUBSTRAT DE RÉSEAU ET APPAREIL D’AFFICHAGE

Pub. No.:    WO/2018/218880    International Application No.:    PCT/CN2017/110874
Publication Date: Fri Dec 07 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Wed Nov 15 00:59:59 CET 2017
IPC: H01L 27/32
H01L 21/77
H01L 21/336
H01L 29/786
H01L 29/04
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD.
京东方科技集团股份有限公司
HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.
合肥鑫晟光电科技有限公司
Inventors: CAO, Binbin
操彬彬
QIAN, Haijiao
钱海蛟
YANG, Chengshao
杨成绍
HUANG, Yinhu
黄寅虎
Title: PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU, SUBSTRAT DE RÉSEAU ET APPAREIL D’AFFICHAGE
Abstract:
La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat de réseau, un substrat de réseau et un appareil d’affichage. Le procédé de fabrication d'un substrat de réseau consiste à : fournir un substrat de base (200); former une couche semi-conductrice (213) sur le substrat de base (200); déposer un matériau de couche barrière de gravure (221) sur la couche semi-conductrice (213); former une couche barrière de gravure (220) au moyen de la réalisation d'une gravure humide sur le matériau de couche barrière de gravure (221); et former une couche active (210) au moyen d'une gravure sèche sur la couche semi-conductrice (213), la couche active (210) comprenant une première zone (211) et une seconde zone (212) entourant la première zone (211), et une projection orthographique, sur le substrat de base (200), de la couche barrière de gravure (220) coïncide complètement avec une projection orthographique, sur le substrat de base (200), de la première zone (211) de la couche active (210). Au moyen du procédé de fabrication, un courant à l’état passant et une mobilité d'électrons peuvent être augmentés, et un court-circuit entre une ligne de données et une ligne de grille ou une ligne d'électrode commune peut également être évité, ce qui permet d'améliorer le rendement d'un produit.