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1. (WO2018205086) MIROIR D'ABSORPTION SATURABLE À HÉTÉROJONCTION DE MATÉRIAU BIDIMENSIONNEL ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
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N° de publication : WO/2018/205086 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/083437
Date de publication : 15.11.2018 Date de dépôt international : 08.05.2017
CIB :
H01S 3/11 (2006.01) ,H01S 3/098 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
10
Commande de l'intensité, de la fréquence, de la phase, de la polarisation ou de la direction du rayonnement, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation ou démodulation
11
dans lesquels le facteur de qualité du résonateur optique est changé rapidement, c. à d. technique des impulsions géantes
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
S
DISPOSITIFS UTILISANT L'ÉMISSION STIMULÉE
3
Lasers, c. à d. dispositifs pour la production, l'amplification, la modulation, la démodulation ou le changement de fréquence utilisant l'émission stimulée d'ondes infrarouges, visibles ou ultraviolettes
098
Accrochage de modes; Suppression de modes
Déposants :
深圳大学 SHENZHEN UNIVERSITY [CN/CN]; 中国广东省深圳市 南山区南海大道3688号 No.3688 Nanhai Road, Nanshan Shenzhen, Guangdong 518000, CN
Inventeurs :
闫培光 YAN, Peiguang; CN
陈浩 CHEN, Hao; CN
邢凤飞 XING, Fengfei; CN
Mandataire :
深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙) HENSEN INTELLECTUAL PROPERTY FIRM; 中国广东省深圳市 福田区南园路68号上步大厦10H 10H Shangbu Building No.68 Nanyuan Road, Futian Shenzhen, Guangdong 518000, CN
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) TWO-DIMENSIONAL MATERIAL HETEROJUNCTION SATURABLE ABSORPTION MIRROR AND PREPARATION METHOD THEREFOR
(FR) MIROIR D'ABSORPTION SATURABLE À HÉTÉROJONCTION DE MATÉRIAU BIDIMENSIONNEL ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
(ZH) 一种二维材料异质结可饱和吸收镜及其制备方法
Abrégé :
(EN) A two-dimensional material heterojunction saturable absorption mirror (100), applicable to the technical field of lasers. The two-dimensional material heterojunction saturable absorption mirror (100) comprises a substrate (101) etched with electrodes (102), a gold film layer (103) covering the substrate (101) and an atomic hierarchical two-dimensional material p-n junction film (104) covering the gold film layer (103); and the two-dimensional material heterojunction saturable absorption mirror (100) further comprises an adjustable direct-current power supply (106), wherein the adjustable direct-current power supply (106) is connected to the electrodes (102). The two-dimensional material heterojunction saturable absorption mirror (100) applies, via the adjustable direct-current power supply (106), external direct-current bias voltages with different amplitude values to the symmetrical electrodes (102) of the two-dimensional material heterojunction absorption mirror (100) to change the amplitudes of the external direct-current bias voltages, so as to actively optimize the nonlinear optical property of the two-dimensional material heterojunction saturated absorption mirror (100), and further optimize the laser property of a pulse fiber laser (200).
(FR) L'invention concerne un miroir d'absorption saturable à hétérojonction de matériau bidimensionnel (100), applicable au domaine technique des lasers. Le miroir d'absorption saturable à hétérojonction de matériau bidimensionnel (100) comprend un substrat (101) gravé avec des électrodes (102), une couche de film d'or (103) recouvrant le substrat (101) et un film à jonction p-n de matériau bidimensionnel hiérarchique atomique (104) recouvrant la couche de film d'or (103); et le miroir d'absorption saturable à hétérojonction de matériau bidimensionnel (100) comprend en outre une alimentation électrique à courant continu réglable (106), l'alimentation électrique à courant continu réglable (106) étant connectée aux électrodes (102). Le miroir d'absorption saturable à hétérojonction de matériau bidimensionnel (100) applique, par l'intermédiaire de l'alimentation électrique à courant continu réglable (106), des tensions de polarisation de courant continu externes ayant différentes valeurs d'amplitude aux électrodes symétriques (102) du miroir d'absorption à hétérojonction de matériau bidimensionnel (100) pour modifier les amplitudes des tensions de polarisation de courant continu externes, de façon à optimiser activement la propriété optique non linéaire du miroir d'absorption saturé à hétérojonction de matériau bidimensionnel (100), et optimiser davantage la propriété laser d'un laser à fibre pulsé (200).
(ZH) 一种二维材料异质结可饱和吸收镜(100),适用于激光技术领域。所述二维材料异质结可饱和吸收镜(100)包括刻蚀有电极(102)的基底(101)、覆盖在所述基底(101)上的金膜层(103)及覆盖在所述金膜层(103)上的原子层级二维材料p-n结薄膜(104);所述二维材料异质结可饱和吸收镜(100)还包括可调直流电源(106),所述可调直流电源(106)与所述电极(102)连接。该二维材料异质结可饱和吸收镜(100)通过可调直流电源(106)将不同幅值的外部直流偏置电压施加于这种二维材料异质结可饱和吸收镜(100)的对称电极(102),改变外置直流偏置电压幅值的大小,从而主动优化所述二维材料异质结可饱和吸收镜(100)的非线性光学特性,进一步优化脉冲光纤激光器(200)的激光特性。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)