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1. (WO2018203369) APPAREIL DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
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N° de publication : WO/2018/203369 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/017159
Date de publication : 08.11.2018 Date de dépôt international : 01.05.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,H05G 2/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
G
TECHNIQUE DES RAYONS X
2
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
Déposants :
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
Inventeurs :
堀 司 HORI, Tsukasa; JP
細田 裕計 HOSODA, Hirokazu; JP
Mandataire :
松浦 憲三 MATSUURA, Kenzo; JP
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATION APPARATUS
(FR) APPAREIL DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
Abrégé :
(EN) An extreme ultraviolet light generation apparatus according to one aspect of the present invention is provided with: a chamber in which extreme ultraviolet light is generated when tin is irradiated with a laser beam; a hydrogen gas supply path that connects the chamber with a hydrogen gas output part of a hydrogen gas supply device functioning as a supply source of a hydrogen gas supplied to the inside of the chamber, and that receives a supply of hydrogen gas from the hydrogen gas supply device and supplies the hydrogen gas supplied from the hydrogen gas supply device to the chamber; a temperature adjusting part that is connected to the hydrogen gas supply path and adjusts the temperature of the hydrogen gas to 16°C or lower; and a gas discharge part that is connected to the chamber and discharges to the outside of the chamber a gas including at least the hydrogen gas in the chamber.
(FR) Un appareil de génération de lumière ultraviolette extrême selon un aspect de la présente invention comprend : une chambre dans laquelle une lumière ultraviolette extrême est générée lorsque de l'étain est irradié au moyen d'un faisceau laser ; un trajet d'alimentation en hydrogène gazeux qui relie la chambre à une partie de sortie d'hydrogène gazeux d'un dispositif d'alimentation en hydrogène gazeux tenant lieu de source d'alimentation d'un hydrogène gazeux fourni à l'intérieur de la chambre, et qui reçoit une alimentation en hydrogène gazeux provenant du dispositif d'alimentation en hydrogène gazeux et fournit l'hydrogène gazeux fourni par le dispositif d'alimentation en hydrogène gazeux à la chambre ; une partie de réglage de température qui est reliée au trajet d'alimentation en hydrogène gazeux et règle la température de l'hydrogène gazeux à une température inférieure ou égale à 16 °C ; et une partie d'évacuation de gaz qui est reliée à la chambre et qui évacue vers l'extérieur de la chambre un gaz comprenant au moins l'hydrogène gazeux dans la chambre.
(JA) 本開示の一観点に係る極端紫外光生成装置は、内部でスズにレーザ光を照射して極端紫外光を生成するチャンバと、チャンバの内部に供給する水素ガスの供給源である水素ガス供給装置の水素ガスの出力部とチャンバとを接続させる水素ガス供給経路であり、水素ガス供給装置から水素ガスの供給を受け、水素ガス供給装置から供給を受けた水素ガスをチャンバへ供給する水素ガス供給経路と、水素ガス供給経路に接続され、水素ガスの温度を16℃以下の温度に調整する温調部と、チャンバに接続され、チャンバの内部の少なくとも水素ガスを含むガスをチャンバの外部に排出するガス排出部と、を備える。
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Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)