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1. (WO2018199950) DÉCHARGE DE MOTIF SUR UN PHOTOCONDUCTEUR
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N° de publication : WO/2018/199950 N° de la demande internationale : PCT/US2017/029795
Date de publication : 01.11.2018 Date de dépôt international : 27.04.2017
CIB :
G03G 15/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
G
ÉLECTROGRAPHIE; ÉLECTROPHOTOGRAPHIE; MAGNÉTOGRAPHIE
15
Appareils pour procédés électrographiques utilisant un dessin de charge
Déposants :
HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. [US/US]; 11445 Compaq Center Drive West Houston, Texas 77070, US
Inventeurs :
JERAN, Paul; US
Mandataire :
HASAN, Nishat; US
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) PATTERN DISCHARGE TO PHOTOCONDUCTOR
(FR) DÉCHARGE DE MOTIF SUR UN PHOTOCONDUCTEUR
Abrégé :
(EN) Examples disclosed herein relate to an imaging device. The imaging device to include a discharge member to discharge a first pattern on a photoconductor; and a writing engine to control the discharge member to discharge a second pattern to the photoconductor to obscure any latent pattern formed from the first pattern remaining on the photoconductor.
(FR) Selon certains exemples, la présente invention concerne un dispositif d'imagerie. Le dispositif d'imagerie comprend un élément de décharge permettant de décharger un premier motif sur un photoconducteur ; et un moteur d'écriture servant à commander l'élément de décharge pour qu'il décharge un second motif sur le photoconducteur afin d'obscurcir tout motif latent formé à partir du premier motif restant sur le photoconducteur.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)