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1. (WO2018199810) PROCÉDÉ D'HYDROPHOBISATION D'UN SUBSTRAT

Pub. No.:    WO/2018/199810    International Application No.:    PCT/RU2018/000269
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu Apr 26 01:59:59 CEST 2018
IPC: C23C 16/02
C23C 16/24
C23C 16/455
Applicants: ZAKRYTOE AKTSIONERNOE OBSCHESTVO NAUCHNOINZHENERNYJ TSENTR "INKOMSISTEM"
ЗАКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО НАУЧНО-ИНЖЕНЕРНЫЙ ЦЕНТР "ИНКОМСИСТЕМ"
Inventors: MOROZOV, Georgii Sergeevich
МОРОЗОВ, Георгий Сергеевич
BAKUSEV, Ruslan Yakhiyaevich
БАКУСЕВ, Руслан Яхияевич
Title: PROCÉDÉ D'HYDROPHOBISATION D'UN SUBSTRAT
Abstract:
L'invention concerne un procédé d'hydrophobisation d'une surface de substrats et peut s'utiliser dans des systèmes gazifères de prise et des stockage d'échantillons de gaz naturel à des fins d préparation de substrat, par exemple, d'un récipient pour le stockage de gaz et de pipeline d'amenée, dans des systèmes de contrôle de qualité des produits dans l'industrie pétrolière et gazière, dans des laboratoires d'analyses chimiques, dans la fabrication d'instruments analytiques et de chromatographes, dans des unités commerciales de comptabilisation, dans des systèmes de mesure des quantités et des indications de quantité de gaz et de gaz à base d'hydrocarbures liquéfiés dans des pipelines de gaz principaux. Le procédé d'hydrophobisation d'un substrat comprend les stades de préparation d'au moins une surface de substrat et de sédimentation de silicium amorphe sur au moins une surface de substrat. Cette préparation de la surface du substrat consiste à nettoyer la surface avec un solvant organique à une température de 25°C à 35°C, à traiter la surface avec une solution d'acide inorganique à une température de 20°C à 30°C, et à sécher la surface du substrat dans une atmosphère de gaz inerte.