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1. (WO2018197838) DISPOSITIFS MEMS ET PROCÉDÉS
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N° de publication : WO/2018/197838 N° de la demande internationale : PCT/GB2018/050998
Date de publication : 01.11.2018 Date de dépôt international : 17.04.2018
CIB :
H04R 19/00 (2006.01) ,H04R 31/00 (2006.01) ,H04R 19/04 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
04
TECHNIQUE DE LA COMMUNICATION ÉLECTRIQUE
R
HAUT-PARLEURS, MICROPHONES, TÊTES DE LECTURE POUR TOURNE-DISQUES OU TRANSDUCTEURS ACOUSTIQUES ÉLECTROMÉCANIQUES ANALOGUES; APPAREILS POUR SOURDS; SYSTÈMES D'ANNONCE EN PUBLIC
19
Transducteurs électrostatiques
H ÉLECTRICITÉ
04
TECHNIQUE DE LA COMMUNICATION ÉLECTRIQUE
R
HAUT-PARLEURS, MICROPHONES, TÊTES DE LECTURE POUR TOURNE-DISQUES OU TRANSDUCTEURS ACOUSTIQUES ÉLECTROMÉCANIQUES ANALOGUES; APPAREILS POUR SOURDS; SYSTÈMES D'ANNONCE EN PUBLIC
31
Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication des transducteurs ou de leurs diaphragmes
H ÉLECTRICITÉ
04
TECHNIQUE DE LA COMMUNICATION ÉLECTRIQUE
R
HAUT-PARLEURS, MICROPHONES, TÊTES DE LECTURE POUR TOURNE-DISQUES OU TRANSDUCTEURS ACOUSTIQUES ÉLECTROMÉCANIQUES ANALOGUES; APPAREILS POUR SOURDS; SYSTÈMES D'ANNONCE EN PUBLIC
19
Transducteurs électrostatiques
04
Microphones
Déposants :
CIRRUS LOGIC INTERNATIONAL SEMICONDUCTOR LIMITED [GB/GB]; 7B Nightingale Way, Quartermile Edinburgh Lothian EH3 9EG, GB
Inventeurs :
PIECHOCINSKI, Marek Sebastian; GB
Mandataire :
COOPER-ROLFE, Elizabeth; GB
Données relatives à la priorité :
1708905.305.06.2017GB
62/491,49128.04.2017US
Titre (EN) MEMS DEVICES AND PROCESSES
(FR) DISPOSITIFS MEMS ET PROCÉDÉS
Abrégé :
(EN) The application describes MEMS devices and associated methods of fabrication. The MEMS devices comprise a filter configured and arranged to inhibit the entry of particles into at least a region of the interior of the substrate cavity from a region underlying the substrate.
(FR) La présente invention concerne des dispositifs MEMS et des procédés de fabrication associés. Les dispositifs MEMS comprennent un filtre configuré et agencé pour empêcher l'entrée de particules dans au moins une région à l'intérieur de la cavité de substrat à partir d'une région sous-jacente au substrat.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)