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1. (WO2018179807) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS ET COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
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N° de publication : WO/2018/179807 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/003203
Date de publication : 04.10.2018 Date de dépôt international : 31.01.2018
CIB :
G03F 7/023 (2006.01) ,C07D 303/28 (2006.01) ,C08G 59/22 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/075 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
022
Quinonediazides
023
Quinonediazides macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
303
Composés contenant des cycles à trois chaînons comportant un atome d'oxygène comme unique hétéro-atome du cycle
02
Composés contenant des cycles oxirane
12
avec des radicaux hydrocarbonés, substitués par des atomes d'oxygène liés par des liaisons simples ou doubles
18
par des radicaux hydroxyle éthérifiés
28
Ethers avec des composés hydroxylés contenant des cycles oxirane
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
G
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS AUTRES QUE CELLES FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
59
Polycondensats contenant plusieurs groupes époxyde par molécule; Macromolécules obtenues par réaction de polycondensats polyépoxydés avec des composés monofonctionnels à bas poids moléculaire; Macromolécules obtenues par polymérisation de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde
18
Macromolécules obtenues par polymérisation à partir de composés contenant plusieurs groupes époxyde par molécule en utilisant des agents de durcissement ou des catalyseurs qui réagissent avec les groupes époxyde
20
caractérisées par les composés époxydés utilisés
22
Composés diépoxydés
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
075
Composés contenant du silicium
Déposants :
日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内一丁目6番2号 6-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1008246, JP
Inventeurs :
藤村 誠 FUJIMURA Makoto; JP
Mandataire :
杉村 憲司 SUGIMURA Kenji; JP
Données relatives à la priorité :
2017-06867230.03.2017JP
Titre (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ELECTRONIC COMPONENT
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS ET COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
(JA) 感放射線樹脂組成物および電子部品
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide a radiation-sensitive resin composition with which it is possible to form a resin film that sufficiently inhibits generation of development residues and that exhibits superior elongation properties. The radiation-sensitive resin composition according to the present invention comprises a cyclic olefin polymer (A-1) having a protonic polar group, a cyclic olefin polymer (A-2) having a protonic polar group, a bifunctional epoxy compound (B), and a radiation-sensitive compound (C), wherein the cyclic olefin polymer (A-1) has a weight average molecular weight of not less than 1,000 but less than 10,000; the cyclic olefin polymer (A-2) has a weight average molecular weight of 10,000-100,000; and the contained amount of the cyclic olefin polymer (A-2) accounts for 5-55 mass% of the total contained amount of the cyclic olefin polymer (A-1) and the cyclic olefin polymer (A-2).
(FR) Le but de la présente invention est de fournir une composition de résine sensible au rayonnement grâce à laquelle il est possible de former un film de résine qui inhibe suffisamment la génération de résidus de développement et qui présente des propriétés d'allongement supérieures. La composition de résine sensible au rayonnement selon la présente invention comprend un polymère d'oléfine cyclique (AF1) ayant un groupe polaire protonique, un polymère d'oléfine cyclique (A-2) ayant un groupe polaire protonique, un composé époxy bifonctionnel (B), et un composé sensible au rayonnement (C), le polymère d'oléfine cyclique (A-1) ayant un poids moléculaire moyen en poids d'au moins 1 000 mais inférieur à 10 000 ; le polymère d'oléfine cyclique (A-2) a un poids moléculaire moyen en poids variant de 10 000 à 100 000 ; et la quantité contenue du polymère d'oléfine cyclique (A-2) représente 5-55 % en masse de la quantité totale contenue du polymère d'oléfine cyclique (AF1) et du polymère d'oléfine cyclique (A-2).
(JA) 本発明は、現像残渣の発生が十分に抑制されていると共に、優れた伸長性を備える樹脂膜を形成可能な感放射線樹脂組成物の提供を目的とする。本発明の感放射線樹脂組成物は、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A-1)、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A-2)、2官能エポキシ化合物(B)、および感放射線化合物(C)を含有し、前記環状オレフィン重合体(A-1)の重量平均分子量が1000以上10000未満であり、前記環状オレフィン重合体(A-2)の重量平均分子量が10000以上100000以下であり、そして、前記環状オレフィン重合体(A-2)の含有量が、前記環状オレフィン重合体(A-1)と前記環状オレフィン重合体(A-2)の合計含有量の5質量%以上55質量%以下である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)