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1. (WO2018164043) COMPOSÉ PRÉCURSEUR MARQUÉ AU FLUOR RADIOACTIF, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ MARQUÉ AU FLUOR RADIOACTIF UTILISANT CE DERNIER
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N° de publication : WO/2018/164043 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/008287
Date de publication : 13.09.2018 Date de dépôt international : 05.03.2018
CIB :
C07C 309/76 (2006.01) ,A61K 51/00 (2006.01) ,A61K 51/04 (2006.01) ,C07B 59/00 (2006.01) ,C07C 41/22 (2006.01) ,C07C 43/174 (2006.01) ,C07C 309/77 (2006.01) ,C07D 401/14 (2006.01) ,C07D 471/04 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
309
Acides sulfoniques; Leurs halogénures, esters ou anhydrides
63
Esters d'acides sulfoniques
72
ayant des atomes de soufre de groupes sulfo estérifiés liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné
76
contenant des atomes d'azote, ne faisant pas partie de groupes nitro ou nitroso, liés au squelette carboné
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
K
PRÉPARATIONS À USAGE MÉDICAL, DENTAIRE OU POUR LA TOILETTE
51
Préparations contenant des substances radioactives utilisées pour la thérapie ou pour l'examen in vivo
A NÉCESSITÉS COURANTES DE LA VIE
61
SCIENCES MÉDICALE OU VÉTÉRINAIRE; HYGIÈNE
K
PRÉPARATIONS À USAGE MÉDICAL, DENTAIRE OU POUR LA TOILETTE
51
Préparations contenant des substances radioactives utilisées pour la thérapie ou pour l'examen in vivo
02
caractérisées par le support
04
Composés organiques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
B
PROCÉDÉS GÉNÉRAUX DE CHIMIE ORGANIQUE; APPAREILS À CET EFFET
59
Introduction d'isotopes d'éléments dans les composés organiques
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
41
Préparation d'éthers; Préparation de composés comportant des groupes , des groupes ou des groupes
01
Préparation d'éthers
18
par des réactions ne formant pas de liaisons sur l'oxygène de la fonction éther
22
par introduction d'atomes d'halogène; par substitution d'atomes d'halogène par des atomes d'autres halogènes
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
43
Ethers; Composés comportant des groupes , des groupes ou des groupes
02
Ethers
03
toutes les liaisons sur l'oxygène de la fonction éther étant sur des atomes de carbone acycliques
14
Ethers non saturés
17
contenant des atomes d'halogène
174
contenant des cycles aromatiques à six chaînons
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
309
Acides sulfoniques; Leurs halogénures, esters ou anhydrides
63
Esters d'acides sulfoniques
72
ayant des atomes de soufre de groupes sulfo estérifiés liés à des atomes de carbone de cycles aromatiques à six chaînons d'un squelette carboné
77
contenant des groupes carboxyle liés au squelette carboné
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
401
Composés hétérocycliques contenant plusieurs hétérocycles comportant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du cycle, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un unique atome d'azote
14
contenant au moins trois hétérocycles
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
471
Composés hétérocycliques contenant des atomes d'azote comme uniques hétéro-atomes du système condensé, au moins un cycle étant un cycle à six chaînons avec un atome d'azote, non prévus dans les groupes C07D451/-C07D463/254
02
dans lesquels le système condensé contient deux hétérocycles
04
Systèmes condensés en ortho
Déposants :
日本メジフィジックス株式会社 NIHON MEDI-PHYSICS CO., LTD. [JP/JP]; 東京都江東区新砂3丁目4番10号 3-4-10, Shinsuna, Koto-ku, Tokyo 1360075, JP
国立大学法人東京工業大学 TOKYO INSTITUTE OF TECHNOLOGY [JP/JP]; 東京都目黒区大岡山2-12-1 2-12-1, Ookayama, Meguro-ku Tokyo 1528550, JP
Inventeurs :
桐生 真登 KIRIU Masato; JP
市川 浩章 ICHIKAWA Hiroaki; JP
奥村 侑紀 OKUMURA Yuki; JP
田中 浩士 TANAKA Hiroshi; JP
Mandataire :
井出正威 IDE Masatake; JP
Données relatives à la priorité :
2017-04278307.03.2017JP
Titre (EN) RADIOACTIVE FLUORINE-LABELED PRECURSOR COMPOUND, AND METHOD FOR PRODUCING RADIOACTIVE FLUORINE-LABELED COMPOUND USING SAME
(FR) COMPOSÉ PRÉCURSEUR MARQUÉ AU FLUOR RADIOACTIF, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN COMPOSÉ MARQUÉ AU FLUOR RADIOACTIF UTILISANT CE DERNIER
(JA) 放射性フッ素標識前駆体化合物及びそれを用いた放射性フッ素標識化合物の製造方法
Abrégé :
(EN) Provided is a labeled precursor compound represented by formula (2). (In the formula, S represents a substrate, L represents a C1-6 linear alkyl group which may contain an ether group, R1 and R2 each independently represent a C1-30 linear or branched alkyl group, or a substituted or unsubstituted monocyclic or fused polycyclic aryl group, each R3 independently represents a C1-4 alkyl group or a C1-4 alkoxy group, and p represents an integer of 0 to 4.)
(FR) L'invention concerne un composé précurseur marqué, représenté par la formule (2). (Dans la formule, S représente un substrat, L représente un groupe alkyle linéaire en C1-6 qui peut contenir un groupe éther, R1 et R2 représentent chacun indépendamment un groupe alkyle linéaire ou ramifié en C1-30, ou un groupe aryle monocyclique ou polycyclique fusionné, substitué ou non substitué, chaque R3 représentant indépendamment un groupe alkyle en C1-4 ou un groupe alcoxy en C1-4, et p représente un nombre entier compris entre 0 et 4.)
(JA) 下記一般式(2): 〔式中、 Sは基質を示し、 Lは炭素数1~6のエーテル基を含んでもよい直鎖のアルキル基を示し、 R及びRは、それぞれ独立に、炭素数1~30の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基、又は、置換若しくは非置換の単環若しくは縮合多環アリール基を示し、 Rは、それぞれ独立に、炭素数1~4のアルキル基、又は、炭素数1~4のアルコキシ基を示し、 pは0~4の整数を示す。〕 で表わされる、標識前駆体化合物を提供する。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)