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1. (WO2018160344) COMPOSITIONS DE PRÉTRAITEMENT DE SUBSTRAT DESTINÉES À UNE LITHOGRAPHIE PAR NANO-IMPRESSION
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N° de publication : WO/2018/160344 N° de la demande internationale : PCT/US2018/017829
Date de publication : 07.09.2018 Date de dépôt international : 12.02.2018
CIB :
G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/16 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
[IPC code unknown for G03F 7][IPC code unknown for G03F 7/20][IPC code unknown for G03F 7/16][IPC code unknown for H01L 21/027]
Déposants :
CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-Chome, Ohta-ku Tokyo, 146-8501, JP
CANON NANOTECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 1807 West Braker Lane C-300 Austin, Texas 78758, US (AE)
Inventeurs :
STACHOWIAK, Timothy Brian; US
LIU, Weijun; US
WAN, Fen; US
Mandataire :
KING, Cameron, A.; US
Données relatives à la priorité :
15/449,39503.03.2017US
Titre (EN) SUBSTRATE PRETREATMENT COMPOSITIONS FOR NANOIMPRINT LITHOGRAPHY
(FR) COMPOSITIONS DE PRÉTRAITEMENT DE SUBSTRAT DESTINÉES À UNE LITHOGRAPHIE PAR NANO-IMPRESSION
Abrégé :
(EN) A nanoimprint lithography method includes coating a surface of a nanoimprint lithography substrate with a pretreatment composition to yield a layer of the pretreatment composition on the surface of the substrate, disposing an imprint resist on the layer of the pretreatment composition to yield a composite layer on the surface of the substrate, contacting the composite layer with a nanoimprint lithography template, and forming a polymeric layer on the surface of the substrate by polymerizing the composite layer. The pretreatment composition includes a polymerizable component having a molecular mass between about 300 and about 750. The imprint resist is a polymerizable composition. The composite layer includes a mixture of the pretreatment composition and the imprint resist. An average spreading rate of the imprint resist to form the composite layer exceeds an average spreading rate of the imprint resist on the substrate under otherwise identical conditions.
(FR) Selon la présente invention, un procédé de lithographie par nano-impression consiste à revêtir la surface d'un substrat de lithographie par nano-impression d'une composition de prétraitement pour produire une couche de la composition de prétraitement sur la surface du substrat, à disposer une réserve d'impression sur la couche de la composition de prétraitement pour produire une couche composite sur la surface du substrat, à mettre en contact la couche composite avec un modèle de lithographie par nano-impression, et à former une couche polymère sur la surface du substrat par polymérisation de la couche composite. La composition de prétraitement comprend un composant polymérisable ayant une masse moléculaire comprise entre environ 300 et environ 750. La réserve d'impression est une composition polymérisable. La couche composite contient un mélange de la composition de prétraitement et de la réserve d'impression. Un taux d'étalement moyen de la réserve d'impression pour former la couche composite dépasse un taux d'étalement moyen de la réserve d'impression sur le substrat dans des conditions autrement identiques.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)