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1. (WO2018159560) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, AGENT DE CONTRÔLE DE DIFFUSION D'ACIDE, SEL DE CARBOXYLATE ET ACIDE CARBOXYLIQUE
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N° de publication : WO/2018/159560 N° de la demande internationale : PCT/JP2018/007043
Date de publication : 07.09.2018 Date de dépôt international : 26.02.2018
CIB :
G03F 7/004 (2006.01) ,C07C 59/11 (2006.01) ,C07C 59/115 (2006.01) ,C07C 59/13 (2006.01) ,C07C 62/04 (2006.01) ,C07C 62/06 (2006.01) ,G03F 7/038 (2006.01) ,G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,C07C 381/12 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
04
Chromates
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
59
Composés comportant des groupes carboxyle liés à des atomes de carbone acycliques et contenant l'un des groupes OH, O-métal, -CHO, cétone, éther, des groupes , des groupes ou des groupes
01
Composés saturés ne comportant qu'un groupe carboxyle et contenant des groupes hydroxyle ou O-métal
11
contenant des cycles
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
59
Composés comportant des groupes carboxyle liés à des atomes de carbone acycliques et contenant l'un des groupes OH, O-métal, -CHO, cétone, éther, des groupes , des groupes ou des groupes
01
Composés saturés ne comportant qu'un groupe carboxyle et contenant des groupes hydroxyle ou O-métal
115
contenant des atomes d'halogène
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
59
Composés comportant des groupes carboxyle liés à des atomes de carbone acycliques et contenant l'un des groupes OH, O-métal, -CHO, cétone, éther, des groupes , des groupes ou des groupes
125
Composés saturés ne comportant qu'un groupe carboxyle et contenant des groupes éther, des groupes , des groupes ou des groupes
13
contenant des cycles
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
62
Composés comportant des groupes carboxyle liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons et contenant l'un des groupes OH, O-métal, -CHO, cétones, éther, des groupes , des groupes ou des groupes
02
Composés saturés contenant des groupes hydroxyle ou O-métal
04
avec un cycle à six chaînons
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
62
Composés comportant des groupes carboxyle liés à des atomes de carbone de cycles autres que des cycles aromatiques à six chaînons et contenant l'un des groupes OH, O-métal, -CHO, cétones, éther, des groupes , des groupes ou des groupes
02
Composés saturés contenant des groupes hydroxyle ou O-métal
06
polycycliques
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
038
Composés macromoléculaires rendus insolubles ou sélectivement mouillables
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
039
Composés macromoléculaires photodégradables, p.ex. réserves positives sensibles aux électrons
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
C
COMPOSÉS ACYCLIQUES OU CARBOCYCLIQUES
381
Composés contenant du carbone et du soufre et comportant des groupes fonctionnels non couverts par les groupes C07C301/-C07C337/163
12
Composés sulfonium
Déposants :
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
Inventeurs :
錦織 克聡 NISHIKORI Katsuaki; JP
岡嵜 聡司 OKAZAKI Satoshi; JP
Mandataire :
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
Données relatives à la priorité :
2017-03880701.03.2017JP
Titre (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, ACID DIFFUSION CONTROL AGENT, CARBOXYLATE SALT AND CARBOXYLIC ACID
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, AGENT DE CONTRÔLE DE DIFFUSION D'ACIDE, SEL DE CARBOXYLATE ET ACIDE CARBOXYLIQUE
(JA) 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤、カルボン酸塩及びカルボン酸
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide: a radiation-sensitive resin composition which has excellent LWR performance, resolution, rectangularity of a cross-sectional shape, depth of focus and film shrinkage suppressing properties; a resist pattern forming method; an acid diffusion control agent; a carboxylate salt; and a carboxylic acid. The present invention is a radiation-sensitive resin composition which contains a polymer having an acid-cleavable group, a radiation-sensitive acid generator, a compound represented by formula (1) and a solvent. In formula (1), X represents an oxygen atom or a sulfur atom; R1 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms; each of R2-R5 moieties independently represents a hydrogen atom or a monovalent organic group having 1-20 carbon atoms, or alternatively, two or more of the R2-R5 moieties combine with each other and represent an alicyclic structure having 3-20 ring members or an aliphatic heterocyclic structure together with carbon atoms to which the moieties are bonded; Zn+ represents an n-valent cation; and n represents an integer of 1-3.
(FR) Le but de la présente invention est de fournir : une composition de résine sensible au rayonnement qui a une excellente performance de LWR, une résolution, une section transversale de forme rectangulaire, une profondeur de foyer et des propriétés de suppression de retrait de film ; un procédé de formation de motif de réserve ; un agent de contrôle de diffusion d'acide ; un sel de carboxylate ; et un acide carboxylique. La présente invention concerne une composition de résine sensible au rayonnement qui contient un polymère ayant un groupe clivable par un acide, un générateur d'acide sensible au rayonnement, un composé représenté par la formule (1) et un solvant. Dans la formule (1), X représente un atome d'oxygène ou un atome de soufre ; R 1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent ayant 1 à 20 atomes de carbone ; chacune des fractions R2-R5 représente indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent ayant de 1 à 20 atomes de carbone, ou en variante, au moins deux des fractions R2-R5 se combinent les unes avec les autres et représentent une structure alicyclique ayant 3 à 20 éléments annulaires ou une structure hétérocyclique aliphatique conjointement avec des atomes de carbone auxquels les fractions sont liées ; Zn+ représente un cation de valence n ; et n représente un nombre entier de 1 à 3.
(JA) LWR性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度及び膜収縮抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤、カルボン酸塩及びカルボン酸の提供を目的とする。本発明は、酸解離性基を有する重合体と、感放射線性酸発生体と、下記式(1)で表される化合物と、溶媒とを含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、Xは、酸素原子又は硫黄原子である。Rは、水素原子又は炭素数1~20の1価の有機基である。R~Rは、それぞれ独立して水素原子又は炭素数1~20の1価の有機基であるか、又はこれらの基のうちの2つ以上が互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3~20の脂環構造又は脂肪族複素環構造を表す。Zn+は、n価のカチオンである。nは、1~3の整数である。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)