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1. (WO2018143588) STRATIFIÉ POUR LA FABRICATION D'UN SUBSTRAT SOUPLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT SOUPLE À L'AIDE DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/143588 N° de la demande internationale : PCT/KR2018/000879
Date de publication : 09.08.2018 Date de dépôt international : 19.01.2018
CIB :
B32B 27/16 (2006.01) ,B32B 27/28 (2006.01) ,B32B 27/08 (2006.01) ,B32B 43/00 (2006.01) ,B32B 37/24 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD.[KR/KR]; 128 Yeoui-daero Yeongdeungpo-gu Seoul 07336, KR
Inventeurs : JEONG, Hye Won; KR
YUN, Cheolmin; KR
KIM, Kyungjun; KR
SHIN, Bora; KR
Mandataire : KIM, Aera; KR
Données relatives à la priorité :
10-2017-001373931.01.2017KR
10-2017-017157213.12.2017KR
Titre (EN) LAMINATE FOR MANUFACTURING FLEXIBLE SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING FLEXIBLE SUBSTRATE BY USING SAME
(FR) STRATIFIÉ POUR LA FABRICATION D'UN SUBSTRAT SOUPLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT SOUPLE À L'AIDE DE CELUI-CI
(KO) 가요성 기판 제조용 적층체 및 이를 이용한 가요성 기판의 제조방법
Abrégé : front page image
(EN) According to the present invention, a laminate for manufacturing a flexible substrate uses, as an organic sacrificial layer for separation of a flexible substrate and a carrier substrate, a polyimide having a high absorption rate for a UV laser so as to enable laser energy density (E/D) necessary during a laser separation process to be reduced and the generation of ash caused by the separation process to be remarkably reduced, thereby enabling process efficiency during a display manufacturing process to improve and reliability of an element to increase by improving the permeability of the flexible substrate.
(FR) La présente invention concerne un stratifié pour fabriquer un substrat souple qui utilise, en tant que couche sacrificielle organique pour la séparation d'un substrat souple et d'un substrat de support, un polyimide ayant un taux d'absorption élevé pour un laser UV de façon à permettre de réduire une densité d'énergie laser (E/D) nécessaire pendant un processus de séparation laser et de réduire considérablement la génération de cendres provoquée par le processus de séparation, ce qui permet d'améliorer l'efficacité de traitement pendant un processus de fabrication d'affichage et d'augmenter la fiabilité d'un élément en améliorant la perméabilité du substrat souple.
(KO) 본 발명에 따른 가요성 기판 제조용 적층체는UV 레이저에 대한 흡수율이 높은 폴리이미드를 가요성 기판과 캐리어 기판의 박리를 위한 유기 희생층으로 사용함으로써, 레이저 박리 공정시 필요한 레이저 에너지 밀도(E/D)의 감소뿐만 아니라 박리공정에 의한 재(ash)의 발생을 현저히 감소시킬 수 있어, 디스플레이 제조공정에 있어서 공정의 효율성을 향상시킬 수 있으며, 가요성 기판의 투과성을 향상시킴으로써 소자의 신뢰성을 높일 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)