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1. (WO2018142577) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FORMATION DE CIRCUIT

Pub. No.:    WO/2018/142577    International Application No.:    PCT/JP2017/003972
Publication Date: Fri Aug 10 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Feb 04 00:59:59 CET 2017
IPC: H05K 3/10
H05K 1/18
H05K 3/12
H05K 3/22
H05K 3/32
H05K 3/40
Applicants: FUJI CORPORATION
株式会社FUJI
Inventors: TSUKADA, Kenji
塚田 謙磁
KAWAJIRI, Akihiro
川尻 明宏
HASHIMOTO, Yoshitaka
橋本 良崇
MAKIHARA, Katsuaki
牧原 克明
TAKEUCHI, Tasuku
竹内 佑
Title: PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FORMATION DE CIRCUIT
Abstract:
Procédé de formation de circuit, comprenant : une première étape de formation de câblage pour former un câblage par déversement sous forme linéaire d'un liquide contenant du métal qui renferme des microparticules métalliques, et par exposition de ce liquide contenant du métal à un rayonnement laser; et une étape de connexion pour connecter une partie électroconductrice avec le câblage formé dans la première étape de formation de câblage à l'aide d'une résine de durcissement électroconductrice.