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1. (WO2018125216) ARCHITECTURE DE CONTACT POUR RÉDUCTION DE CAPACITÉ ET RÉSISTANCE DE CONTACT SATISFAISANTE

Pub. No.:    WO/2018/125216    International Application No.:    PCT/US2016/069513
Publication Date: Fri Jul 06 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Dec 31 00:59:59 CET 2016
IPC: H01L 21/768
H01L 21/28
H01L 21/02
Applicants: INTEL CORPORATION
Inventors: MEHANDRU, Rishabh
PATEL, Pratik A.
TROEGER, Thomas T.
LIAO, Szuya S.
Title: ARCHITECTURE DE CONTACT POUR RÉDUCTION DE CAPACITÉ ET RÉSISTANCE DE CONTACT SATISFAISANTE
Abstract:
L'invention concerne des ensembles solides ayant un espaceur diélectrique composite et des procédés de fabrication des ensembles solides. L'espaceur diélectrique composite peut comprendre, dans certains modes de réalisation, une première couche diélectrique et une seconde couche diélectrique ayant une interface mutuelle. L'espaceur diélectrique composite peut séparer un élément de contact d'un élément d'interconnexion conducteur, réduisant ainsi la capacité entre de tels éléments par rapport à des ensembles solides qui comprennent la première couche diélectrique ou la seconde couche diélectrique. L'espaceur diélectrique composite peut permettre de maintenir la surface occupée d'une interface entre l'interconnexion conductrice et un élément de contact de tranchée qui a une interface avec une couche épitaxiale à porteurs dopés matérialisant ou constituant une région de contact de source ou une région de contact de drain d'un transistor à effet de champ. L'élément de contact de tranchée peut former une autre interface avec l'élément d'interconnexion conducteur, fournissant une résistance de contact satisfaisante entre eux.