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1. (WO2018123820) PROCÉDÉ DE FORMATION DE SAILLIE ET MACHINE
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N° de publication : WO/2018/123820 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/045992
Date de publication : 05.07.2018 Date de dépôt international : 21.12.2017
CIB :
B23K 26/342 (2014.01) ,B23K 26/21 (2014.01)
Déposants : KAWASAKI JUKOGYO KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 1-1, Higashikawasaki-cho 3-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6508670, JP
Inventeurs : GYOTOKU, Yuya; --
MORIHASHI, Ryo; --
SAKANE, Yuto; --
FUJITA, Hiroka; --
ONO, Yuki; --
IWASAKI, Hayato; --
Mandataire : PATENT CORPORATE BODY ARCO PATENT OFFICE; 3rd Fl., Bo-eki Bldg., 123-1, Higashimachi, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500031, JP
Données relatives à la priorité :
2016-25257027.12.2016JP
Titre (EN) METHOD FOR FORMING PROTRUSION AND MACHINE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE SAILLIE ET MACHINE
(JA) 突起形成方法および機械
Abrégé : front page image
(EN) Provided is a method for forming a protrusion on the surface of a workpiece, the method comprising: a step for forming, by LMD, a first bank so as to surround a protrusion formation region on the surface of the workpiece; a step for forming, by LMD, an initial layer so as to cover the first bank on the protrusion formation region; a step for stacking at least one first raising layer on the initial layer by LMD; a step for forming a second bank along the periphery of the at least one first raising layer by LMD; a step for forming, by LMD, an intermediate base layer on the at least one raising layer so as to cover the second bank; and a step for stacking at least one second raising layer on the intermediate base layer by LMD.
(FR) La présente invention concerne un procédé de formation d'une saillie sur la surface d'une pièce à usiner, le procédé comprenant : une étape consistant à former, par LMD, une première ébauche de façon à entourer une région de formation de saillie sur la surface de la pièce à usiner ; une étape consistant à former, par LMD, une couche initiale de façon à recouvrir la première ébauche sur la région de formation de saillie ; une étape consistant à empiler au moins une première couche d'élévation sur la couche initiale par LMD ; une étape consistant à former une seconde ébauche le long de la périphérie de ladite au moins une première couche d'élévation par LMD ; une étape consistant à former, par LMD, une couche de base intermédiaire sur la ou les couches d'élévation de façon à recouvrir la seconde ébauche ; et une étape consistant à empiler au moins une seconde couche d'élévation sur la couche de base intermédiaire par LMD.
(JA) 突起形成方法は、ワークの表面に突起を形成する方法であって、LMDにより、ワークの表面上の突起形成領域を囲うように第1堤防を形成する工程と、LMDにより、突起形成領域上に、第1堤防を覆うように初層を形成する工程と、LMDにより、初層上に少なくとも1つの第1嵩上げ層を積層する工程と、LMDにより、少なくとも1つの第1嵩上げ層の周縁に沿って第2堤防を形成する工程と、LMDにより、少なくとも1つの嵩上げ層上に、第2堤防を覆うように中間ベース層を形成する工程と、LMDにより、中間ベース層上に少なくとも1つの第2嵩上げ層を積層する工程と、を含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)