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1. (WO2018123207) DÉRIVÉ DE NAPHTHOBISCHALCOGÉNADIAZOLE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
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N° de publication : WO/2018/123207 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/037201
Date de publication : 05.07.2018 Date de dépôt international : 13.10.2017
CIB :
C07D 513/04 (2006.01) ,C07D 517/04 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
513
Composés hétérocycliques contenant dans le système condensé au moins un hétérocycle comportant des atomes d'azote et de soufre comme uniques hétéro-atomes du cycle, non prévus dans les groupes C07D463/, C07D477/251
02
dans lesquels le système condensé contient deux hétérocycles
04
Systèmes condensés en ortho
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
07
CHIMIE ORGANIQUE
D
COMPOSÉS HÉTÉROCYCLIQUES
517
Composés hétérocycliques contenant dans le système condensé au moins un hétérocycle comportant des atomes de sélénium, de tellure ou d'halogènes comme hétéro-atomes du cycle
02
dans lesquels le système condensé contient deux hétérocycles
04
Systèmes condensés en ortho
Déposants : OSAKA UNIVERSITY[JP/JP]; 1-1, Yamadaoka, Suita-shi, Osaka 5650871, JP
ISHIHARA SANGYO KAISHA, LTD.[JP/JP]; 3-15, Edobori 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5500002, JP
Inventeurs : IE, Yutaka; JP
ASO, Yoshio; JP
SEO, Takuji; JP
MORIYAMA, Taichi; JP
Mandataire : HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
Données relatives à la priorité :
2016-25434127.12.2016JP
Titre (EN) NAPHTHOBISCHALCOGENADIAZOLE DERIVATIVE AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) DÉRIVÉ DE NAPHTHOBISCHALCOGÉNADIAZOLE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) ナフトビスカルコゲナジアゾール誘導体及びその製造方法
Abrégé :
(EN) The purpose of the present invention is to provide a naphthobischalcogenadiazole derivative which can be used as an intermediate for producing a naphthobischalcogenadiazole compound having a fluorine atom introduced therein. The naphthobischalcogenadiazole derivative according to the present invention is represented by formula (I) (in the formula: A1 and A2 each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom; and X1 and X2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a boronic acid group, a boronic acid ester group, a boronic acid diaminonaphthalene amide group, a boronic acid N-methyliminodiacetic acid ester group, a trifluoroborate salt group, or a triolborate salt group).
(FR) Le but de la présente invention est de fournir un dérivé de naphthobischalcogénadiazole qui peut être utilisé comme intermédiaire pour la production d'un composé de naphthobischalcogénadiazole ayant un atome de fluor introduit à l'intérieur de celui-ci. Le dérivé de naphthobischalcogénadiazole, selon la présente invention est représenté par la formule (I) (dans la formule : A1 et A2 représentent chacun indépendamment un atome d'oxygène, un atome de soufre, un atome de sélénium ou un atome de tellure ; et X1 et X2 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène, un atome d'halogène, un groupe acide boronique, un groupe ester d'acide boronique, un groupe amide d'acide boronique diaminonaphtalène, un groupe ester d'acide N-méthyliminodiacétique d'acide boronique, un groupe de sel de trifluoroborate, ou un groupe de sel de triolborate).
(JA) フッ素原子が導入されたナフトビスカルコゲナジアゾール化合物を製造するための中間体として利用可能なナフトビスカルコゲナジアゾール誘導体を提供することを目的として、本発明のナフトビスカルコゲナジアゾール誘導体は、式(I): (式中、A及びAは、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、セレン原子又はテルル原子であり;X及びXは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ボロン酸基、ボロン酸エステル基、ボロン酸ジアミノナフタレンアミド基、ボロン酸N-メチルイミノ二酢酸エステル基、トリフルオロボレート塩基又はトリオールボレート塩基である)で表される。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)