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1. (WO2018105427) PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM SUR UN SUBSTRAT, ET SYSTÈME FILMOGÈNE

Pub. No.:    WO/2018/105427    International Application No.:    PCT/JP2017/042442
Publication Date: Fri Jun 15 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Nov 28 00:59:59 CET 2017
IPC: C23C 14/34
C23C 14/04
C23C 14/50
C23C 14/56
H01L 21/683
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED
東京エレクトロン株式会社
Inventors: TAKEI Junichi
武井 純一
SUZUKI Naoyuki
鈴木 直行
MIYASHITA Tetsuya
宮下 哲也
Title: PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM SUR UN SUBSTRAT, ET SYSTÈME FILMOGÈNE
Abstract:
Un système filmogène utilisé dans un procédé selon un mode de réalisation de la présente invention comprend un dispositif filmogène et un module de transfert. Le dispositif filmogène comprend : un corps principal de chambre qui renferme une chambre de traitement ; et un support qui supporte une cible, ledit support se trouvant dans la chambre de traitement. Le module de transfert comprend : un autre corps principal de chambre qui renferme une chambre de transfert qui peut être reliée à la chambre de traitement ; et un dispositif de transfert pour transférer un substrat. Le procédé comprend : une étape de transfert du substrat de la chambre de transfert à la chambre de traitement au moyen du dispositif de transfert ; et une étape de décharge de particules à partir de la cible afin de former un film sur le substrat quand le dispositif de transfert supporte le substrat et déplace linéairement le substrat dans la chambre de traitement.