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1. (WO2018104109) PROCÉDÉ POUR RÉPARER DES ÉLÉMENTS OPTIQUES RÉFLÉCHISSANTS POUR LA LITHOGRAPHIE AUX ULTRAVIOLETS EXTRÊMES (EUV)

Pub. No.:    WO/2018/104109    International Application No.:    PCT/EP2017/080645
Publication Date: Fri Jun 15 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Nov 29 00:59:59 CET 2017
IPC: G21K 1/06
G03F 7/20
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: MEIER, Robert
KIEREY, Holger
JALICS, Christof
EVA, Eric
WINTER, Ralf
SCHMITTNER, Arno
KUZNETSOV, Alexey
SHKLOVER, Vitaliy
NOTTBOHM, Christoph
MERKEL, Wolfgang
Title: PROCÉDÉ POUR RÉPARER DES ÉLÉMENTS OPTIQUES RÉFLÉCHISSANTS POUR LA LITHOGRAPHIE AUX ULTRAVIOLETS EXTRÊMES (EUV)
Abstract:
L'invention concerne un procédé économique pour réparer des éléments optiques réfléchissants pour la lithographie EUV, lesquels présentent un substrat (61) et un revêtement (62) qui est réfléchissant à une longueur d'onde de travail se situant dans la plage comprise entre 5 et 20 nm et est endommagé par formation de soufflures d'hydrogène. Ledit procédé comprend les étapes suivantes : localiser un emplacement endommagé (63, 64, 65, 66) du revêtement (62) et recouvrir ledit emplacement endommagé (63, 64, 65, 66) avec un ou plusieurs matériaux à faible perméabilité à l'hydrogène par application d'un élément de recouvrement sur l'emplacement endommagé, ledit élément de recouvrement se composant d'une structure superficielle, d'une surface convexe ou concave ou d'un revêtement correspondant au revêtement de l'élément optique réfléchissant, ou d'une combinaison de ces divers constituants. Ledit procédé convient en particulier à des miroirs collecteurs (70) pour la lithographie EUV. Après réparation, ils présentent des éléments de recouvrement (71, 72, 73).