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1. (WO2018104109) PROCÉDÉ POUR RÉPARER DES ÉLÉMENTS OPTIQUES RÉFLÉCHISSANTS POUR LA LITHOGRAPHIE AUX ULTRAVIOLETS EXTRÊMES (EUV)
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N° de publication : WO/2018/104109 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/080645
Date de publication : 14.06.2018 Date de dépôt international : 28.11.2017
CIB :
G21K 1/06 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH[DE/DE]; RUDOLF-EBER-STRASSE 2 73447 OBERKOCHEN, DE
Inventeurs : MEIER, Robert; DE
KIEREY, Holger; DE
JALICS, Christof; DE
EVA, Eric; DE
WINTER, Ralf; DE
SCHMITTNER, Arno; DE
KUZNETSOV, Alexey; NL
SHKLOVER, Vitaliy; DE
NOTTBOHM, Christoph; DE
MERKEL, Wolfgang; DE
Mandataire : WERNER & TEN BRINK - PATENTANWÄLTE PARTNERSCHAFTSGESELLSCHAFT MBB; Mendelstr. 11 48149 Münster, DE
Données relatives à la priorité :
10 2016 224 200.806.12.2016DE
Titre (EN) METHOD FOR REPAIRING REFLECTIVE OPTICAL ELEMENTS FOR EUV LITHOGRAPHY
(FR) PROCÉDÉ POUR RÉPARER DES ÉLÉMENTS OPTIQUES RÉFLÉCHISSANTS POUR LA LITHOGRAPHIE AUX ULTRAVIOLETS EXTRÊMES (EUV)
(DE) VERFAHREN ZUM REPARIEREN VON REFLEKTIVEN OPTISCHEN ELEMENTEN FÜR DIE EUV-LITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN) The invention relates to a cost-effective method for repairing reflective optical elements for EUV lithography. Said elements have a substrate (61), and a coating (62) that reflects at a working wavelength in the range between 5 nm and 20 nm and is damaged as a result of the formation of hydrogen bubbles. The method comprises the following steps: localizing a damaged area (63, 64, 65, 66) in the coating (62) and covering the damaged area (63, 64, 65, 66) with one or more materials having low hydrogen permeability by applying a cover element to the damaged area, wherein the cover element is formed of a surface structure, a convex or concave surface, or a coating corresponding to the coating of the reflective optical element, or a combination thereof. The method is particularly suitable for collector mirrors (70) for EUV lithography. After the repair, they have cover elements (71, 72, 73).
(FR) L'invention concerne un procédé économique pour réparer des éléments optiques réfléchissants pour la lithographie EUV, lesquels présentent un substrat (61) et un revêtement (62) qui est réfléchissant à une longueur d'onde de travail se situant dans la plage comprise entre 5 et 20 nm et est endommagé par formation de soufflures d'hydrogène. Ledit procédé comprend les étapes suivantes : localiser un emplacement endommagé (63, 64, 65, 66) du revêtement (62) et recouvrir ledit emplacement endommagé (63, 64, 65, 66) avec un ou plusieurs matériaux à faible perméabilité à l'hydrogène par application d'un élément de recouvrement sur l'emplacement endommagé, ledit élément de recouvrement se composant d'une structure superficielle, d'une surface convexe ou concave ou d'un revêtement correspondant au revêtement de l'élément optique réfléchissant, ou d'une combinaison de ces divers constituants. Ledit procédé convient en particulier à des miroirs collecteurs (70) pour la lithographie EUV. Après réparation, ils présentent des éléments de recouvrement (71, 72, 73).
(DE) Es wird ein kostengünstiges Verfahren zum Reparieren von reflektiven optischen Elementen für die EUV-Lithographie vorgeschlagen, die ein Subtrat (61) und eine Beschichtung (62) aufweisen, die bei einer Arbeitswellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 20 nm reflektiert und durch Wasserstoffblasenbildung beschädigt ist. Das Verfahren weist die Schritte Lokalisieren einer Schadstelle (63, 64, 65, 66) in der Beschichtung (62) und Abdecken der Schadstelle (63, 64, 65, 66) mit einem oder mehreren Materialien mit geringer Wasserstoffdurchlässigkeit auf, indem auf die Schadstelle ein Abdeckelement aufgebracht wird, wobei das Abdeckelement mit einer Oberflächenstruktur, einer konvexen oder konkaven Oberfläche oder einer Beschichtung entsprechend der Beschichtung des reflektiven optischen Elements oder einer Kombination davon ausgebildet wird. Das Verfahren ist besonders geeignet für Kollektorspiegel (70) für die EUV-Lithographie. Nach der Reparatur weisen sie Abdeckelemente (71, 72, 73) auf.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)