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1. (WO2018104039) PROCÉDÉS ET APPAREIL DE PRÉDICTION DES PERFORMANCES D'UN PROCÉDÉ DE MESURE, PROCÉDÉ ET APPAREIL DE MESURE
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N° de publication : WO/2018/104039 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/079774
Date de publication : 14.06.2018 Date de dépôt international : 20.11.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G01N 21/47 (2006.01) ,G03F 1/44 (2012.01) ,G01N 21/95 (2006.01) ,G01N 21/956 (2006.01) ,G03F 9/00 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
17
Systèmes dans lesquels la lumière incidente est modifiée suivant les propriétés du matériau examiné
47
Dispersion, c. à d. réflexion diffuse
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1
Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
38
Masques à caractéristiques supplémentaires, p.ex. marquages pour l'alignement ou les tests, ou couches particulières; Leur préparation
44
Aspects liés au test ou à la mesure, p.ex. motifs de grille, contrôleurs de focus, échelles en dents de scie ou échelles à encoches
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95
caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
G PHYSIQUE
01
MÉTROLOGIE; ESSAIS
N
RECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21
Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
84
Systèmes spécialement adaptés à des applications particulières
88
Recherche de la présence de criques, de défauts ou de souillures
95
caractérisée par le matériau ou la forme de l'objet à analyser
956
Inspection de motifs sur la surface d'objets
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9
Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
Déposants :
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventeurs :
JAK, Martin, Jacobus, Johan; NL
Mandataire :
BROEKEN, Petrus; NL
Données relatives à la priorité :
16203208.009.12.2016EP
Titre (EN) METHODS AND APPARATUS FOR PREDICTING PERFORMANCE OF A MEASUREMENT METHOD, MEASUREMENT METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉS ET APPAREIL DE PRÉDICTION DES PERFORMANCES D'UN PROCÉDÉ DE MESURE, PROCÉDÉ ET APPAREIL DE MESURE
Abrégé :
(EN) An overlay measurement (OV) is based on asymmetry in a diffraction spectrum of target structures formed by a lithographic process. Stack difference between target structures can be perceived as grating imbalance (GI), and the accuracy of the overlay measurement may be degraded. A method of predicting GI sensitivity is performed using first and second images (45+, 45-) of the target structure using opposite diffraction orders. Regions (ROI) of the same images are used to measure overlay. Multiple local measurements of symmetry (S) and asymmetry (A) of intensity between the opposite diffraction orders are made, each local measurement of symmetry and asymmetry corresponding to a particular location on the target structure. Based on a statistical analysis of the local measurements of symmetry and asymmetry values, a prediction of sensitivity to grating imbalance is obtained. This can be used to select better measurement recipes, and/or to correct errors caused by grating imbalance.
(FR) Une mesure de recouvrement (OV) est basée sur l'asymétrie d'un spectre de diffraction de structures cibles formées par un procédé lithographique. La différence d'empilement entre les structures cibles peut être perçue comme un déséquilibre de réseau (GI), et la précision de la mesure de recouvrement peut être dégradée. Un procédé de prédiction de la sensibilité GI est réalisé à l'aide de première et seconde images (45+, 45-) de la structure cible à l'aide d'ordres de diffraction opposés. Des régions (ROI) des mêmes images sont utilisées pour mesurer le recouvrement. De multiples mesures locales de symétrie (S) et d'asymétrie (A) d'intensité entre les ordres de diffraction opposés sont effectuées, chaque mesure locale de symétrie et d'asymétrie correspondant à un emplacement particulier sur la structure cible. Sur la base d'une analyse statistique des mesures locales de valeurs de symétrie et d'asymétrie, une prédiction de sensibilité au déséquilibre de réseau est obtenue. Ceci peut être utilisé pour sélectionner de meilleures recettes de mesure, et/ou pour corriger des erreurs provoquées par un déséquilibre de réseau.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)