Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018102305) MANDRIN DE TRANSLATION ET DE ROTATION PERMETTANT LE TRAITEMENT DE SUBSTRATS MICRO-ÉLECTRONIQUES DANS UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/102305 N° de la demande internationale : PCT/US2017/063486
Date de publication : 07.06.2018 Date de dépôt international : 28.11.2017
CIB :
H01L 21/687 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67
Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683
pour le maintien ou la préhension
687
en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
Déposants :
TEL FSI, INC. [US/US]; 3455 Lyman Boulevard Chaska, Minnesota 55318, US
Inventeurs :
HANZLIK, Edward Deneen; US
GRUENHAGEN, Michael; US
HERBST, Tim W.; US
Mandataire :
KAGAN, David, B.; US
BERGER, Scott A.; US
BINDER, Mark, W.; US
BJORKMAN, Dale, A.; US
BUSSE, Paul, B.; US
D'SOUZA, Tanya S.; US
HAKAMAKI, Michaele, A.; US
JIMENEZ, Jose, W.; US
PARINS, Paul, J.; US
SARAGENO, Lori P.; US
SCHULTE, Daniel, C.; US
WARNER, Elizabeth A.; US
WEAVER, Paul, L.; US
Données relatives à la priorité :
62/427,75429.11.2016US
Titre (EN) TRANSLATING AND ROTATING CHUCK FOR PROCESSING MICROELECTRONIC SUBSTRATES IN A PROCESS CHAMBER
(FR) MANDRIN DE TRANSLATION ET DE ROTATION PERMETTANT LE TRAITEMENT DE SUBSTRATS MICRO-ÉLECTRONIQUES DANS UNE CHAMBRE DE TRAITEMENT
Abrégé :
(EN) Cleaning systems and methods for semiconductor fabrication use rotatable and translatable chuck assemblies that incorporate a compact drive system to cause chuck rotation. The system uses an offset drive gear that drives a ring gear. This reduces components whose friction or lubricants might generate undue contamination. The low friction chuck functionality of the present invention is useful in any fabrication tool in which a workpiece is supported on a rotating support during a treatment. The chuck is particularly useful in cryogenic cleaning treatments.
(FR) La présente invention concerne des systèmes et des procédés de nettoyage servant à la fabrication de semi-conducteurs et faisant appel à des ensembles mandrins qui peuvent tourner et effectuer une translation et qui intègrent un système d'entraînement compact destiné à entraîner le mandrin en rotation. Le système fait appel à un engrenage d'entraînement décalé qui entraîne une couronne. Ceci permet de réduire les composants dont le frottement ou les lubrifiants peuvent générer une contamination excessive. La fonctionnalité de mandrin à faible frottement de la présente invention est utile à tout outil de fabrication dans lequel une pièce à travailler est portée sur un support rotatif pendant un traitement. Le mandrin est particulièrement utile lors de traitements de nettoyage cryogéniques.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)