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1. (WO2018101741) STRATIFIÉ
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N° de publication : WO/2018/101741 N° de la demande internationale : PCT/KR2017/013832
Date de publication : 07.06.2018 Date de dépôt international : 29.11.2017
CIB :
C08J 5/22 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/16 (2006.01) ,G03F 7/26 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,C08L 101/00 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD.[KR/KR]; 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336, KR
Inventeurs : LEE, Mi Sook; KR
KU, Se Jin; KR
PARK, No Jin; KR
KIM, Jung Keun; KR
LEE, Je Gwon; KR
RYU, Hyung Ju; KR
CHOI, Eun Young; KR
Mandataire : DANA PATENT LAW FIRM; 5th Floor, New Wing, Gwangsung Bldg., 11, Yeoksam-ro 3-gil, Gangnam-gu, Seoul 06242, KR
Données relatives à la priorité :
10-2016-016214030.11.2016KR
Titre (EN) LAMINATE
(FR) STRATIFIÉ
(KO) 적층체
Abrégé : front page image
(EN) The present application relates to a block copolymer and a use thereof. The present application can provide: a laminate capable of being effectively applied to the production of various patterned substrates; and a method for producing patterned substrates by using the same, since highly-aligned block copolymers can be formed on a substrate.
(FR) La présente invention concerne un copolymère bloc et son utilisation. La présente invention peut fournir: un stratifié pouvant être efficacement appliqué à la production de divers substrats à motifs; et un procédé de production de substrats à motifs à l'aide de celui-ci, étant donné que des copolymères blocs fortement alignés peuvent être formés sur un substrat.
(KO) 본 출원은 블록 공중합체 및 그 용도에 관한 것이다. 본 출원은, 기판상에 고도로 정렬된 블록 공중합체를 형성할 수 있어서, 다양한 패턴화 기판의 제조에 효과적으로 적용될 수 있는 적층체 및 그를 사용한 패턴화 기판의 제조 방법을 제공할 수 있다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)