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1. (WO2018098979) DISPOSITIF BASSE TEMPÉRATURE À BASSE PUISSANCE MULTI-SOURCE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE REVÊTEMENT POLYMÉRISÉ PAR PLASMA
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N° de publication : WO/2018/098979 N° de la demande internationale : PCT/CN2017/081772
Date de publication : 07.06.2018 Date de dépôt international : 25.04.2017
CIB :
B05B 5/10 (2006.01) ,H05H 1/24 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
B
APPAREILLAGES DE PULVÉRISATION; APPAREILLAGES D'ATOMISATION; AJUTAGES OU BUSES
5
Pulvérisation électrostatique; Dispositifs de pulvérisation comportant des moyens pour charger électriquement le pulvérisat; Pulvérisation de liquides ou d'autres matériaux fluides par voies électriques
08
Installations pour appliquer des liquides ou d'autres matériaux fluides à des objets
10
Dispositions pour l'alimentation en énergie, p.ex. en énergie pour la charge
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
H
TECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1
Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24
Production du plasma
Déposants :
江苏菲沃泰纳米科技有限公司 JIANGSU FAVORED NANOTECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国江苏省无锡市 玉祁工业园区东环路 Donghuan Rd., Yuqi Industrial Park Wuxi, Jiangsu 214183, CN
Inventeurs :
宗坚 ZONG, Jian; CN
Données relatives à la priorité :
201611076507.030.11.2016CN
Titre (EN) MULTI-SOURCE LOW-POWER LOW-TEMPERATURE DEVICE AND METHOD FOR FORMING PLASMA POLYMERIZED COATING
(FR) DISPOSITIF BASSE TEMPÉRATURE À BASSE PUISSANCE MULTI-SOURCE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE REVÊTEMENT POLYMÉRISÉ PAR PLASMA
(ZH) 一种多源小功率低温等离子体聚合涂层装置及方法
Abrégé :
(EN) Provided are a multi-source low-power low-temperature device and method for forming a plasma polymerized coating. The device comprises a main vacuum compartment (1), a carrier gas pipe (6) and a monomer vapor pipe (7). A plurality of discharge cavities (2) are arranged at a wall of the main vacuum compartment (1). A planar ground grid (3) and a porous electrode plate (4) are installed in each discharge cavity (2). The porous electrode plate (4) is parallel to and spaced apart from the grid (3), and is connected to a low-power high-frequency power supply (5). The carrier gas pipe (6) and the monomer vapor pipe (7) are respectively connected to the interior of each discharge cavity (2). A substrate (9) to be treated is placed inside the main vacuum compartment (1). The method comprises the following steps: turning on a vacuum pump; admitting a carrier gas and monomer vapor; and releasing, by a porous electrode plate (4), an electrical energy toward a wall of a discharge cavity (2), such that polymerization of the monomer vapor occurs, and a polymerized product sequentially passes through holes of the porous electrode plate (4) and a grid (3) to enter a main vacuum compartment (1) and deposit on a surface of a substrate (9) to form a polymeric coating. The method enables uniform spatial distribution of plasma, and has good uniformity of batch-processed products. Moreover, energy and density of the plasma are low, thereby preventing a chemical monomer structure from being excessively damaged, and ensuring good quality of polymeric coatings.
(FR) L'invention concerne un dispositif basse température à basse puissance multi-source et un procédé de formation d'un revêtement polymérisé par plasma. Le dispositif selon l'invention comprend un compartiment à vide principal (1), un tuyau de gaz porteur (6) et un tuyau de vapeur de monomère (7). Une pluralité de cavités de décharge (2) sont formées au niveau d'une paroi du compartiment à vide principal (1). Une grille de terre plane (3) et une plaque d'électrode poreuse (4) sont montées dans chaque cavité de décharge (2). La plaque d'électrode poreuse (4) est parallèle à la grille (3) et espacée de celle-ci et elle est raccordée à une alimentation électrique haute fréquence basse puissance (5). Le tuyau de gaz porteur (6) et le tuyau de vapeur de monomère (7) sont reliés respectivement à l'intérieur de chaque cavité de décharge (2). Un substrat (9) à traiter est placé à l'intérieur du compartiment à vide principal (1). Le procédé selon l'invention comprend les étapes suivantes consistant : à mettre en marche une pompe à vide; à laisser entrer un gaz porteur et de la vapeur de monomère; et à libérer, par une plaque d'électrode poreuse (4), une énergie électrique en direction d'une paroi d'une cavité de décharge (2), de sorte que la polymérisation de la vapeur de monomère se produise et qu'un produit polymérisé passe séquentiellement à travers les trous de la plaque d'électrode poreuse (4) et d'une grille (3) pour pénétrer dans un compartiment à vide principal (1) et se déposer sur une surface d'un substrat (9) afin de former un revêtement polymère. Le procédé selon l'invention permet une distribution spatiale uniforme de plasma et présente une bonne uniformité de produits traités par lots. En outre, l'énergie et la densité du plasma sont faibles, ce qui empêche l'endommagement excessif d'une structure monomère chimique et assure une bonne qualité de revêtements polymères.
(ZH) 一种多源小功率低温等离子体聚合涂层装置及方法,该装置包括主真空室(1),在主真空室(1)壁上安装多个放电腔(2),在每个放电腔(2)安装一个平面接地栅网(3)和多孔电极板(4),多孔电极板(4)与栅网(3)平行并保持间隙,并连接小功率高频电源(5);载体气体管路(6)和单体蒸汽管路(7)分别连接到每个放电腔(2)内,待处理的基材(9)放在主真空室(1)内部。该方法包括以下步骤:开启真空泵,通入载体气体和单体蒸汽,多孔电极板(4)对放电腔(2)壁放电,单体蒸汽发生聚合,聚合产物先后穿过多孔电极板(4)上的小孔和栅网(3)进入主真空室(1)并沉积在基材(9)表面形成聚合物涂层。该方法形成的等离子体空间分布均匀,批处理产品质量均一性好,等离子体能量、密度较低,化学单体结构不易被过度破坏,聚合物涂层质量好。
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Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)