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1. (WO2018083721) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLULE SOLAIRE HAUTEMENT EFFICACE
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N° de publication :    WO/2018/083721    N° de la demande internationale :    PCT/JP2016/004822
Date de publication : 11.05.2018 Date de dépôt international : 07.11.2016
CIB :
H01L 31/18 (2006.01), H01L 31/068 (2012.01)
Déposants : SHIN-ETSU CHEMICAL CO.,LTD. [JP/JP]; 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Inventeurs : HASHIGAMI, Hiroshi; (JP).
UEGURI, Toyohiro; (JP).
WATABE, Takenori; (JP).
OHTSUKA, Hiroyuki; (JP)
Mandataire : YOSHIMIYA, Mikio; (JP).
KOBAYASHI, Toshihiro; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING HIGH-EFFICIENCY SOLAR CELL
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLULE SOLAIRE HAUTEMENT EFFICACE
(JA) 高効率太陽電池の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is a method for manufacturing a high-efficiency solar cell, having: a step for forming a first electrode on a first main surface of a semiconductor substrate; a step for applying an insulation film precursor so as to cover at least a part of the first electrode; a step for provisionally curing the insulation film precursor; a step for applying an electroconductive paste on at least the insulation film precursor so as to be electrically insulated with respect to the first electrode; a step for curing the electroconductive paste to produce a second electrode; and a step for performing main curing of the insulation film precursor to produce an insulation film. The step for applying the electroconductive paste so as to be electrically insulated with respect to the first electrode is performed after the step for provisionally curing the insulation film precursor. At least a part of the step for curing the electroconductive paste to produce a second electrode and at least a part of the step for performing main curing of the insulation film precursor to produce an insulation film are performed simultaneously. A method for manufacturing a solar cell having high photoelectric conversion properties and a high productivity is thereby provided.
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication de cellule solaire qui présente : une étape au cours de laquelle une première électrode est formée sur une surface principale d’un substrat semi-conducteur ; une étape au cours de laquelle un précurseur de film isolant est appliqué de manière à recouvrir au moins une partie de ladite première électrode ; une étape au cours de laquelle ledit précurseur de film isolant est durci de manière temporaire ; une étape au cours de laquelle une pâte conductrice est appliquée au moins sur ledit précurseur de film isolant de manière à l’isoler électriquement de ladite première électrode ; une étape au cours de laquelle ladite pâte conductrice est durcie pour former une seconde électrode ; et une étape au cours de laquelle ledit précurseur de film isolant est définitivement durci pour former un film isolant. Ladite étape au cours de laquelle une pâte conductrice est appliquée de manière à isoler électriquement ledit précurseur de film isolant de ladite première électrode, est effectuée après ladite étape au cours de laquelle ledit précurseur de film isolant est durci de manière temporaire, et au moins une partie de l’étape au cours de laquelle ladite pâte conductrice est durcie pour former une seconde électrode ainsi qu’au moins une partie de l’étape au cours de laquelle ledit précurseur de film isolant est définitivement durci pour former un film isolant, sont effectuées simultanément. Ainsi, l’invention fournit un procédé de fabrication de cellule solaire qui présente une productivité élevée, et des caractéristiques de conversion photoélectrique élevées.
(JA)本発明は、半導体基板の第1主表面に、第1電極を形成する工程と、前記第1電極の少なくとも一部を覆うように、絶縁膜前駆体を塗布する工程と、前記絶縁膜前駆体を仮硬化させる工程と、少なくとも前記絶縁膜前駆体上に、導電性ペーストを前記第1電極と電気的に絶縁するように塗布する工程と、前記導電性ペーストを硬化させて第2電極とする工程と、前記絶縁膜前駆体を本硬化させて絶縁膜とする工程と、を有し、前記導電性ペーストを前記第1電極と電気的に絶縁するように塗布する工程は、前記絶縁膜前駆体を仮硬化させる工程後に行われ、前記導電性ペーストを硬化させて第2電極とする工程の少なくとも一部と前記絶縁膜前駆体を本硬化させて絶縁膜とする工程の少なくとも一部が同時に行われる太陽電池の製造方法である。これにより、生産性が高く、高い光電変換特性を有する太陽電池の製造方法が提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)