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1. (WO2018083454) DISPOSITIFS DE SÉCURITÉ ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
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N° de publication :    WO/2018/083454    N° de la demande internationale :    PCT/GB2017/053265
Date de publication : 11.05.2018 Date de dépôt international : 31.10.2017
CIB :
B42D 25/324 (2014.01)
Déposants : DE LA RUE INTERNATIONAL LIMITED [GB/GB]; De La Rue House Jays Close Viables Basingstoke Hampshire RG22 4BS (GB)
Inventeurs : HOLMES, Brian William; (GB)
Mandataire : GILL JENNINGS & EVERY LLP; The Broadgate Tower 20 Primrose Street London EC2A 2ES (GB)
Données relatives à la priorité :
1618441.8 01.11.2016 GB
Titre (EN) SECURITY DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURE THEREOF
(FR) DISPOSITIFS DE SÉCURITÉ ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)A method of manufacturing a security device is provided. The method comprises providing a substrate, the substrate having opposing first and second surfaces and a relief structure formed in the first surface of the substrate. A reflection enhancing layer is applied over the first surface of the substrate such that the reflection enhancing layer at least partially overlaps the relief structure and such that a first region of the first surface of the substrate does not have the reflection enhancing layer. An absorber layer is applied over the reflection enhancing layer such that the absorber layer at least partially overlaps the reflection enhancing layer and the relief structure where the reflection enhancing layer and the relief structure overlap each other, and such that the absorber layer at least partially overlaps the first region of the first surface of the substrate. An optical spacer layer is applied over the absorber layer such that the optical spacer layer at least partially overlaps the absorber layer, reflection enhancing layer and the relief structure where the absorber layer, reflection enhancing layer and the relief structure overlap each other, and such that the optical spacer layer at least partially overlaps the absorber layer and the first region where the absorber layer and the first region overlap each other. A reflector layer, formed of an at least partially reflective material, is applied over the optical spacer layer such that the reflector layer at least partially overlaps the optical spacer layer, the absorber layer, the reflection enhancing layer and the relief structure where the optical spacer layer, the absorber layer, the reflection enhancing layer and the relief structure overlap each other, and such that the reflector layer at least partially overlaps the optical spacer layer, the absorber layer and the first region where the optical spacer layer, the absorber layer and the first region overlap each other. The reflection enhancing layer and the absorber layer are formed of the same material. The absorber layer, the optical spacer layer and the reflector layer, together, form a colour-shifting structure. The reflection enhancing layer and the absorber layer, together, are substantially opaque or transmit less than 40% of incident light, preferably less than 20% of incident light.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d’un dispositif de sécurité. Le procédé consiste à fournir un substrat, le substrat ayant des première et seconde surfaces opposées et une structure en relief formée dans la première surface du substrat. Une couche d'amélioration de réflexion est appliquée sur la première surface du substrat de telle sorte que la couche d'amélioration de réflexion chevauche au moins partiellement la structure en relief et de telle sorte qu'une première région de la première surface du substrat ne possède pas la couche d'amélioration de réflexion. Une couche absorbante est appliquée sur la couche d'amélioration de réflexion de telle sorte que la couche absorbante chevauche au moins partiellement la couche d'amélioration de réflexion et la structure en relief où la couche d'amélioration de réflexion et la structure en relief se chevauchent, et de telle sorte que la couche absorbante chevauche au moins partiellement la première région de la première surface du substrat. Une couche d'espacement optique est appliquée sur la couche absorbante de telle sorte que la couche d'espacement optique chevauche au moins partiellement la couche absorbante, la couche d'amélioration de réflexion et la structure en relief où la couche absorbante, la couche d'amélioration de réflexion et la structure en relief se chevauchent, et de telle sorte que la couche d'espacement optique chevauche au moins partiellement la couche absorbante et la première région où la couche absorbante et la première région se chevauchent. Une couche réfléchissante, composée d'un matériau au moins partiellement réfléchissant, est appliquée sur la couche d'espacement optique de telle sorte que la couche réfléchissante chevauche au moins partiellement la couche d'espacement optique, la couche absorbante, la couche d'amélioration de réflexion et la structure en relief où la couche d'espacement optique, la couche absorbante, la couche d'amélioration de réflexion et la structure en relief se chevauchent, et de telle sorte que la couche réfléchissante chevauche au moins partiellement la couche d'espacement optique, la couche absorbante et la première région où la couche d'espacement optique, la couche absorbante et la première région se chevauchent. La couche d'amélioration de réflexion et la couche absorbante sont composées du même matériau. La couche absorbante, la couche d'espacement optique et la couche réfléchissante forment ensemble une structure de changement de couleur. La couche d'amélioration de réflexion et la couche absorbante, ensemble, sont sensiblement opaques ou transmettent moins de 40 % de lumière incidente, de préférence moins de 20 % de lumière incidente.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)