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1. (WO2018078929) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, AGENT DE BASE ET STRATIFIÉ
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N° de publication :    WO/2018/078929    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/020103
Date de publication : 03.05.2018 Date de dépôt international : 30.05.2017
CIB :
B05D 7/24 (2006.01), B05D 1/36 (2006.01), B32B 27/28 (2006.01), B32B 27/30 (2006.01), C08F 293/00 (2006.01), C09D 5/00 (2006.01), C09D 125/04 (2006.01), C09D 133/04 (2006.01), C09D 133/14 (2006.01), C09D 153/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : OJI HOLDINGS CORPORATION [JP/JP]; 7-5, Ginza 4-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
Inventeurs : MORITA Kazuyo; (JP).
HATTORI Kimiko; (JP)
Mandataire : SIKS & CO.; 8th Floor, Kyobashi-Nisshoku Bldg., 8-7, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-212352 28.10.2016 JP
Titre (EN) PATTERN FORMING METHOD, BASE AGENT AND LAMINATE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, AGENT DE BASE ET STRATIFIÉ
(JA) パターン形成方法、下地剤及び積層体
Abrégé : front page image
(EN)A pattern forming method which comprises a step for applying a base agent onto a substrate and a step for applying a self-assembling composition for pattern formation onto a substrate surface to which the base agent has been applied, thereby forming a self-assembled film by means of self-assembling phase separation, and wherein the self-assembling composition for pattern formation contains a block copolymer which comprises a polymer moiety a that has at least one of the structures represented by formula (103) or formula (104) and a polymer moiety b that has a structure represented by formula (105), while having a sugar moiety content of from 3% by mass to 80% by mass (inclusive). A base agent which contains a polymer comprising at least one unit selected from among optionally substituted units derived from (meth)acrylates and optionally substituted units derived from styrene, and which is used for the purpose of causing a phase separation of a self-assembling composition for pattern formation containing a block copolymer which comprises a polymer moiety a that has at least one of the structures represented by formula (103) or formula (104) and a polymer moiety b that has a structure represented by formula (105), while having a sugar moiety content of from 3% by mass to 80% by mass (inclusive). A laminate which sequentially comprises, in the following order, a substrate, a base layer that contains a polymer comprising at least one unit selected from among optionally substituted units derived from (meth)acrylates and optionally substituted units derived from styrene, and a pattern formation layer that contains a block copolymer which comprises a polymer moiety a that has at least one of the structures represented by formula (103) or formula (104) and a polymer moiety b that has a structure represented by formula (105), while having a sugar moiety content of from 3% by mass to 80% by mass (inclusive).
(FR)La présente invention concerne un procédé de formation de motif qui comprend une étape consistant à appliquer un agent de base sur un substrat et une étape consistant à appliquer une composition à auto-assemblage pour la formation de motif sur une surface de substrat sur laquelle l'agent de base a été appliqué, formant ainsi un film auto-assemblé au moyen d'une séparation de phase à auto-assemblage, et la composition à auto-assemblage pour formation de motif contenant un copolymère séquencé qui comprend une fraction polymère a qui présente au moins l'une des structures représentées par la formule (103) ou la formule (104) et une fraction polymère b qui a une structure représentée par la formule (105), tout en ayant une teneur en fraction de sucre de 3 % en masse à 80 % en masse (inclus). Un agent de base qui contient un polymère comprenant au moins une unité choisie parmi des unités éventuellement substituées dérivées de (méth)acrylates et des unités éventuellement substituées dérivées du styrène, et qui est utilisé dans le but de provoquer une séparation de phase d'une composition à auto-assemblage pour la formation de motif contenant un copolymère séquencé qui comprend une fraction polymère a qui présente au moins l'une des structures représentées par la formule (103) ou la formule (104) et une fraction polymère b qui a une structure représentée par la formule (105), tout en ayant une teneur en fraction de sucre de 3 % en masse à 80 % en masse (inclus). Un stratifié qui comprend séquentiellement, dans l'ordre suivant, un substrat, une couche de base qui contient un polymère comprenant au moins une unité choisie parmi des unités éventuellement substituées dérivées de (méth)acrylates et des unités éventuellement substituées dérivées du styrène, et une couche de formation de motif qui contient un copolymère séquencé qui comprend une fraction polymère a qui a au moins l'une des structures représentées par la formule (103) ou la formule (104) et une fraction polymère b qui a une structure représentée par la formule (105), tout en ayant une teneur en fraction de sucre de 3 % en masse à 80 % en masse (inclus).
(JA)基板上に下地剤を塗布する工程と、パターン形成用自己組織化組成物を基板上の下地剤を塗工した面に塗布し自己組織化相分離によって自己組織化膜を形成する工程と、を含むパターン形成方法であって、パターン形成用自己組織化組成物は、式(103)及び式(104)で表される構造の少なくとも一方を有する重合部aと、式(105)で表される構造を有する重合部bと、を含み、糖部の含有率が3質量%以上80質量%以下であるブロックコポリマーを含む、パターン形成方法。 式(103)及び式(104)で表される構造の少なくとも一方を有する重合部aと、式(105)で表される構造を有する重合部bと、を含み、糖部の含有率が3質量%以上80質量%以下であるブロックコポリマーを含むパターン形成用自己組織化組成物を相分離させるために用いられる、置換基を有してもよい(メタ)アクリレート由来単位及び置換基を有してもよいスチレン由来単位から選択される少なくとも1種を含有するポリマーを含む下地剤。 基板と、置換基を有してもよい(メタ)アクリレート由来単位及び置換基を有してもよいスチレン由来単位から選択される少なくとも1種を含有するポリマーを含む下地層と、式(103)及び式(104)で表される構造の少なくとも一方を有する重合部aと、式(105)で表される構造を有する重合部bと、を含み、糖部の含有率が3質量%以上80質量%以下であるブロックポリマーを含むパターン形成層と、をこの順で有する積層体
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)