Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018067500) FABRICATION DE RÉSEAUX DE DIFFRACTION NON UNIFORMES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/067500 N° de la demande internationale : PCT/US2017/054844
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 03.10.2017
CIB :
G02B 5/18 (2006.01) ,G02B 6/34 (2006.01) ,G02B 26/08 (2006.01) ,G02B 27/01 (2006.01) ,G02B 27/22 (2006.01)
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5
Eléments optiques autres que les lentilles
18
Grilles de diffraction
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6
Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
24
Couplage de guides de lumière
26
Moyens de couplage optique
34
utilisant des prismes ou des réseaux
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26
Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte, modulation
08
pour commander la direction de la lumière
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27
Autres systèmes optiques; Autres appareils optiques
01
Dispositifs d'affichage "tête haute"
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27
Autres systèmes optiques; Autres appareils optiques
22
pour produire des effets stéréoscopiques ou autres effets de relief
Déposants :
MAGIC LEAP, INC. [US/US]; 7500 W. Sunrise Blvd. Plantation, Florida 33322, US
Inventeurs :
MELLI, Mauro; US
PEROZ, PHD, Christophe; US
Mandataire :
GOU, Yunbo; US
Données relatives à la priorité :
62/404,55505.10.2016US
Titre (EN) FABRICATING NON-UNIFORM DIFFRACTION GRATINGS
(FR) FABRICATION DE RÉSEAUX DE DIFFRACTION NON UNIFORMES
Abrégé :
(EN) A method of fabricating non-uniform gratings includes implanting different densities of ions into corresponding areas of a substrate, patterning, e.g., by lithography, a resist layer on the substrate, etching the substrate with the patterned resist layer, and then removing the resist layer from the substrate, leaving the substrate with at least one grating having non-uniform characteristics associated with the different densities of ions implanted in the areas. The method can further include using the substrate having the grating as a mold to fabricate a corresponding grating having corresponding non-uniform characteristics, e.g., by nanoimprint lithography.
(FR) Un procédé de fabrication de réseaux non uniformes consiste à implanter différentes densités d'ions dans des zones correspondantes d'un substrat, la formation de motifs, par exemple par lithographie, d'une couche de réserve sur le substrat, la gravure du substrat avec la couche de réserve à motifs, puis à retirer la couche de réserve du substrat, laissant le substrat avec au moins un réseau ayant des caractéristiques non uniformes associées aux différentes densités d'ions implantés dans les zones. Le procédé peut en outre comprendre l'utilisation du substrat ayant le réseau en tant que moule pour fabriquer un réseau correspondant ayant des caractéristiques non uniformes correspondantes, par exemple, par lithographie par nano-impression.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)