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1. (WO2018066410) MATÉRIAU EXTRUDÉ À CHAUD POUR CIBLE DE PULVÉRISATION CYLINDRIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CIBLE DE PULVÉRISATION CYLINDRIQUE
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N° de publication :    WO/2018/066410    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/034742
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 26.09.2017
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), C22C 9/00 (2006.01), C22C 9/02 (2006.01), C22C 9/06 (2006.01), C22C 9/08 (2006.01), C22F 1/08 (2006.01), C22F 1/00 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION [JP/JP]; 3-2, Otemachi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008117 (JP)
Inventeurs : OHTO Michiaki; (JP).
KUMAGAI Satoshi; (JP).
SAKURAI Akira; (JP)
Mandataire : MATSUNUMA Yasushi; (JP).
TERAMOTO Mitsuo; (JP).
HOSOKAWA Fumihiro; (JP).
ONAMI Kazunori; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-199009 07.10.2016 JP
Titre (EN) HOT EXTRUDED MATERIAL FOR CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
(FR) MATÉRIAU EXTRUDÉ À CHAUD POUR CIBLE DE PULVÉRISATION CYLINDRIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CIBLE DE PULVÉRISATION CYLINDRIQUE
(JA) 円筒型スパッタリングターゲット用熱間押出素材、及び、円筒型スパッタリングターゲットの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This hot extruded material for a cylindrical sputtering target contains copper at a purity in the range of 99.99-99.9995% by mass, and has an Al content of 0.5 mass ppm or less, an Si content of 1 mass ppm or less, a C content of 1 mass ppm or less, an O content of 2 mass ppm or less, an H content of 1 mass ppm or less and an S content of 5 mass ppm or less. The average crystalline grain size measured from a total of 36 positions is within a range of 10-110 μm. The positions are derived from three cross sections taken perpendicular to the axis line O direction at one end portion, an intermediate portion and the other end portion, in which three positions, which include a position in a surface layer part, a position at a depth of 1/4 from the surface layer part in the radial direction and a position at a depth of 1/2 from the surface layer part in the radial direction, are measured from four locations along the circumference. The Vickers hardness is in the range of 40-100 Hv.
(FR)La présente invention concerne un matériau extrudé à chaud pour une cible de pulvérisation cylindrique qui contient du cuivre à une pureté dans la plage de 99,99 à 99,9995 % en masse, et a une teneur en Al de 0,5 ppm en masse ou moins, une teneur en Si de 1 ppm en masse ou moins, une teneur en C de 1 ppm en masse ou moins, une teneur en O de 2 ppm en masse ou moins, une teneur en H de 1 ppm en masse ou moins et une teneur en S de 5 ppm en masse ou moins. La taille de grain cristallin moyenne mesurée depuis un total de 36 positions est dans une plage de 10 à 110 µm. Les positions sont dérivées de trois sections transversales prises perpendiculairement à la direction de ligne d’axe O au niveau d’une partie d’extrémité, d’une partie intermédiaire et de l’autre partie d’extrémité, dans lesquelles trois positions, qui comprennent une position dans une partie de couche de surface, une position à une profondeur de 1/4 depuis la partie de couche de surface dans la direction radiale et une position à une profondeur de 1/2 depuis la partie de couche de surface dans la direction radiale, sont mesurées depuis quatre emplacements le long de la circonférence. La dureté Vickers est dans la plage de 40 à 100 Hv.
(JA)この円筒型スパッタリングターゲット用熱間押出素材では、銅の純度が99.99mass%以上99.9995mass%以下の範囲内とされ、Alの含有量が0.5massppm以下、Siの含有量が1massppm以下、Cの含有量が1massppm以下、Oの含有量が2massppm以下、Hの含有量が1massppm以下、Sの含有量が5massppm以下とされ、軸線O方向の一端部、中間部及び他端部の軸線O方向に直交する3つの断面において周方向の4つの位置で表層部、表層部から径方向に1/4位置、表層部から径方向に1/2位置の3つの位置の全36か所で測定した平均結晶粒径が10μm以上110μm以下の範囲内とされ、ビッカース硬度が40Hv以上100Hv以下の範囲内とされている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)