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1. (WO2018065183) INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION ET PROCÉDÉ POUR RÉDUIRE LES DÉFORMATIONS DES COMPOSANTS DU DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION DUES AUX ACCÉLÉRATIONS DYNAMIQUES
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N° de publication : WO/2018/065183 N° de la demande internationale : PCT/EP2017/073109
Date de publication : 12.04.2018 Date de dépôt international : 14.09.2017
CIB :
G03F 7/20 (2006.01) ,G02B 7/182 (2006.01)
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20
Exposition; Appareillages à cet effet
G PHYSIQUE
02
OPTIQUE
B
ÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
7
Montures, moyens de réglage ou raccords étanches à la lumière pour éléments optiques
18
pour prismes; pour miroirs
182
pour miroirs
Déposants :
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen, DE
Inventeurs :
HEMBACHER, Stefan; DE
LOOPSTRA, Erik; DE
KUGLER, Jens; DE
GEUPPERT, Bernhard; DE
Mandataire :
RAUNECKER, Klaus, Peter; DE
Données relatives à la priorité :
10 2016 219 330.906.10.2016DE
Titre (EN) PROJECTION EXPOSURE SYSTEM AND METHOD FOR REDUCING DEFORMATIONS OF COMPONENTS OF THE PROJECTION EXPOSURE SYSTEM CAUSED BY DYNAMIC ACCELERATIONS
(FR) INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION ET PROCÉDÉ POUR RÉDUIRE LES DÉFORMATIONS DES COMPOSANTS DU DISPOSITIF DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION DUES AUX ACCÉLÉRATIONS DYNAMIQUES
(DE) PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUR VERRINGERUNG AUS DYNAMISCHEN BESCHLEUNIGUNGEN HERRÜHRENDEN DEFORMATIONEN VON KOMPONENTEN DER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
Abrégé :
(EN) The invention relates to a projection exposure system (1) for semiconductor lithography, comprising at least one component (22) and a support device having at least one support actuator (23) which acts on at least one support point (27) of the component (22) in such a way that deformations of the component (22) are reduced, wherein the support device has a control unit (28) for actuating the at least one support actuator (23), wherein the control unit (28) is configured to actuate the support actuator (23) during a dynamic acceleration acting on the component (22). The invention also relates to a method for reducing deformations of components of a projection exposure system for semiconductor lithography caused by dynamic accelerations.
(FR) L'invention concerne un dispositif de lithographie par projection (1) pour la lithographie appliquée aux semi-conducteurs, comprenant au moins un composant (22), un dispositif de support pourvu d'au moins un actionneur de support (23) qui agit sur au moins un point d'appui (27) du composant (22) de manière à réduire les déformations du composant (22), le dispositif de support comprenant une unité de commande (28) qui commande ledit au moins un actionneur de support (23), le dispositif de commande (28) étant configuré pour commander l'actionneur de support (23) en réponse à une accélération dynamique agissant sur le composant (22). L'invention concerne en outre un procédé pour réduire les déformations de composants d'une installation de lithographie par projection pour semi-conducteurs qui sont dues à des accélérations dynamiques.
(DE) Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie, umfassend - mindestens eine Komponente (22), - eine Abstützvorrichtung mit mindestens einem Stützaktuator (23), welcher derart auf mindestens eine Stützstelle (27) der Komponente (22) einwirkt, dass Deformationen der Komponente (22) verringert werden, wobei die Abstützvorrichtung eine Steuereinheit (28) zur Ansteuerung des mindestens einen Stützaktuators (23) umfasst, wobei die Steuereinheit (28) dazu eingerichtet ist, den Stützaktuator (23) anlässlich einer auf die Komponente (22) einwirkenden dynamischen Beschleunigung anzusteuern. Daneben betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Verringerung von aus dynamischen Beschleunigungen herrührenden Deformationen von Komponenten einer Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie.
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Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)