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1. (WO2018064292) PROCÉDÉS DE FORMATION DE TROUS D'INTERCONNEXION AUTO-ALIGNÉS
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N° de publication : WO/2018/064292 N° de la demande internationale : PCT/US2017/053936
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 28.09.2017
CIB :
H01L 21/768 (2006.01)
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
70
Fabrication ou traitement de dispositifs consistant en une pluralité de composants à l'état solide ou de circuits intégrés formés dans ou sur un substrat commun, ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci; Fabrication de dispositifs à circuit intégré ou de parties constitutives spécifiques de ceux-ci
71
Fabrication de parties spécifiques de dispositifs définis en H01L21/7089
768
Fixation d'interconnexions servant à conduire le courant entre des composants distincts à l'intérieur du dispositif
Déposants :
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventeurs :
THOMPSON, David; US
SCHMIEGE, Benjamin; US
ANTHIS, Jeffrey W.; US
MALLICK, Abhijit Basu; US
ROY, Susmit Singha; US
DUAN, Ziqing; US
Mandataire :
BLANKMAN, Jeffrey I.; US
Données relatives à la priorité :
15/718,14828.09.2017US
62/403,03630.09.2016US
Titre (EN) METHODS OF FORMING SELF-ALIGNED VIAS
(FR) PROCÉDÉS DE FORMATION DE TROUS D'INTERCONNEXION AUTO-ALIGNÉS
Abrégé :
(EN) Processing methods comprising selectively orthogonally growing a first material through a mask to provide an expanded first material are described. The mask can be removed leaving the expanded first material extending orthogonally from the surface of the first material. Further processing can create a self-aligned via.
(FR) L'invention concerne des procédés de traitement comprenant la croissance orthogonale sélective d'un premier matériau à travers un masque pour fournir un premier matériau expansé. Le masque peut être retiré, laissant le premier matériau expansé s'étendant orthogonalement à partir de la surface du premier matériau. Un autre traitement peut créer un trou d'interconnexion auto-aligné.
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)