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1. (WO2018061584) COMPOSITION DE RÉSINE PHÉNOLIQUE POUR MATÉRIAU DE FROTTEMENT ET MATÉRIAU DE FROTTEMENT
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N° de publication : WO/2018/061584 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/031052
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 30.08.2017
CIB :
C09K 3/14 (2006.01) ,C08F 22/06 (2006.01) ,C08J 5/14 (2006.01) ,C08L 61/10 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
09
COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
K
SUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
3
Substances non couvertes ailleurs
14
Substances antidérapantes; Abrasifs
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
F
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
22
Homopolymères ou copolymères de composés contenant un ou plusieurs radicaux aliphatiques non saturés, chaque radical ne contenant qu'une seule liaison double carbone-carbone, l'un au moins étant terminé par un radical carboxyle et contenant au moins un autre radical carboxyle dans la molécule; Leurs sels, anhydrides, esters, amides, imides ou nitriles
04
Anhydrides, p.ex. anhydrides cycliques
06
Anhydride maléique
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
J
MISE EN ŒUVRE; PROCÉDÉS GÉNÉRAUX POUR FORMER DES MÉLANGES; POST-TRAITEMENT NON COUVERT PAR LES SOUS-CLASSES C08B, C08C, C08F, C08G ou C08H149
5
Fabrication d'objets ou de matériaux façonnés contenant des substances macromoléculaires
14
Fabrication d'objets ou de matériaux abrasifs ou de friction
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
08
COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
L
COMPOSITIONS CONTENANT DES COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
61
Compositions contenant des polymères de condensation d'aldéhydes ou de cétones; Compositions contenant des dérivés de tels polymères
04
Polymères de condensation obtenus uniquement à partir d'aldéhydes ou de cétones avec des phénols
06
d'aldéhydes avec des phénols
08
avec des phénols monohydriques
10
Condensats phénol-formaldéhydes
Déposants :
住友ベークライト株式会社 SUMITOMO BAKELITE CO., LTD. [JP/JP]; 東京都品川区東品川2丁目5番8号 5-8, Higashi-Shinagawa 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1400002, JP
Inventeurs :
鈴木 裕司 SUZUKI Yuji; JP
穴田 亘平 ANADA Kohei; JP
大西 治 ONISHI Osamu; JP
原田 直幸 HARADA Naoyuki; JP
Mandataire :
速水 進治 HAYAMI Shinji; JP
Données relatives à la priorité :
2016-18978028.09.2016JP
Titre (EN) PHENOL RESIN COMPOSITION FOR FRICTION MATERIAL AND FRICTION MATERIAL
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHÉNOLIQUE POUR MATÉRIAU DE FROTTEMENT ET MATÉRIAU DE FROTTEMENT
(JA) 摩擦材用フェノール樹脂組成物および摩擦材
Abrégé :
(EN) This resin composition comprises a phenol resin and a polymer having repeating structural units represented by formula (1). (In formula (1), Rx and Ry are each independently a hydrogen atom or a C1-3 organic group.)
(FR) La présente invention concerne une composition de résine comprenant une résine phénolique, et un polymère comprenant des unités de répétition représentées par la formule (1). (Dans la formule (1), Rx et Ry désignent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe organique C1-3.)
(JA) 本発明の樹脂組成物は、フェノール樹脂と、下記式(1)で表される繰り返し構造単位を含むポリマーと、を含む。 (式(1)中、Rx、Ryは、それぞれ独立して水素または炭素数1~3の有機基を示す。)。
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États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)