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1. (WO2018061533) COMPOSITION TENSIOACTIVE
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N° de publication :    WO/2018/061533    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/029970
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 22.08.2017
CIB :
B01F 17/42 (2006.01), B01F 17/02 (2006.01), C08F 2/24 (2006.01), C08F 20/00 (2006.01)
Déposants : DAI-ICHI KOGYO SEIYAKU CO., LTD. [JP/JP]; 55, Nishishichijo Higashikubo-cho, Shimogyo-ku, kyoto-shi, Kyoto 6008873 (JP)
Inventeurs : JOYABU Masatake; (JP).
SHIOHARA Kei; (JP).
OGASAWARA Asako; (JP).
KIMURA Takuro; (JP).
TAO Chi; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-191121 29.09.2016 JP
Titre (EN) SURFACTANT COMPOSITION
(FR) COMPOSITION TENSIOACTIVE
(JA) 界面活性剤組成物
Abrégé : front page image
(EN)The present invention improves polymerization stability and chemical stability and also improves the water resistance of resin films. The surfactant composition according to the embodiments includes: a surfactant (A) represented by general formula (1); and an anionic surfactant (B) that is different from surfactant (A) and has a hydrophobic group. R1 represents a C8-14 alkyl group, A represents a C2-4 alkylene group, and n represents the average number of added moles of an oxyalkylene group and is a number from 1 to 100.
(FR)La présente invention améliore la stabilité de polymérisation et la stabilité chimique et améliore également l’imperméabilité à l'eau de films de résine. La composition de tensioactif selon les modes de réalisation comprend : un tensioactif (A) représenté par la formule générale (1); et un tensioactif anionique (B) qui est différent du tensioactif (A) et a un groupe hydrophobe. R1 représente un groupe alkyle en C8-14, A représente un groupe alkylène en C2-4, et n représente le nombre moyen de moles ajoutées d'un groupe oxyalkylène et qui est un nombre de 1 à 100.
(JA)重合安定性、化学的安定性及び樹脂フィルムの耐水性を向上する。実施形態に係る界面活性剤組成物は、一般式(1)で表される界面活性剤(A)、及び、界面活性剤(A)とは異なる疎水基を有するアニオン性界面活性剤(B)を含むものである。Rは炭素数8~14のアルキル基を表し、Aは炭素数2~4のアルキレン基を表し、nはオキシアルキレン基の平均付加モル数を表し1~100の数である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)