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1. (WO2018061520) CARTOUCHE DE LIQUIDE DE NETTOYAGE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE UTILISANT LADITE CARTOUCHE DE LIQUIDE DE NETTOYAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication :    WO/2018/061520    N° de la demande internationale :    PCT/JP2017/029748
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 21.08.2017
CIB :
H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventeurs : MIURA, Atsuyasu; (JP).
SHINJO, Junichi; (JP)
Mandataire : FURIKADO, Shoichi; (JP).
OHNISHI, Kazumasa; (JP)
Données relatives à la priorité :
2016-188635 27.09.2016 JP
Titre (EN) CLEANING LIQUID CARTRIDGE AND CLEANING METHOD USING SAID CLEANING LIQUID CARTRIDGE
(FR) CARTOUCHE DE LIQUIDE DE NETTOYAGE ET PROCÉDÉ DE NETTOYAGE UTILISANT LADITE CARTOUCHE DE LIQUIDE DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄液カートリッジおよび該洗浄液カートリッジを用いた洗浄方法
Abrégé : front page image
(EN)In order to efficiently supply a processing liquid system of a substrate processing device with a cleaning liquid for cleaning the processing liquid system, the present invention is provided with: a cartridge main body having a storing space for storing a cleaning liquid, and an opening that communicates with the storing space; and a gas introduction part that has a gas supply passage that communicates with the storing space, and forms, in the storing space, a high-pressure gas region having a pressure higher than the atmospheric pressure by introducing a gas supplied from outside of the cartridge main body via the gas supply passage to the storing space in which the cleaning liquid is stored. The cleaning liquid is ejected through the opening into the processing liquid system by means of the high-pressure gas region.
(FR)Afin d'alimenter efficacement un système de liquide de traitement d'un dispositif de traitement de substrat en liquide de nettoyage destiné à nettoyer le système de liquide de traitement, la présente invention comprend : un corps principal de cartouche ayant un espace de stockage pour stocker un liquide de nettoyage, et une ouverture qui communique avec l'espace de stockage ; et une partie d'introduction de gaz qui a un passage d'alimentation en gaz qui communique avec l'espace de stockage, et forme, dans l'espace de stockage, une région de gaz haute pression ayant une pression supérieure à la pression atmosphérique par l'introduction d'un gaz fourni depuis l'extérieur du corps principal de cartouche par l'intermédiaire du passage d'alimentation en gaz vers l'espace de stockage dans lequel le liquide de nettoyage est stocké. Le liquide de nettoyage est éjecté à travers l'ouverture dans le système de liquide de traitement au moyen de la région de gaz haute pression.
(JA)基板処理装置の処理液系統を洗浄するための洗浄液を処理液系統に対して効率的に供給する。 洗浄液を貯留する貯留空間および貯留空間に連通する開口部を有するカートリッジ本体と、貯留空間に連通された給気経路を有し、洗浄液を貯留した貯留空間に対してカートリッジ本体の外部から供給される気体を給気経路を介して導入して貯留空間内に大気圧よりも高い高圧気体領域を形成する気体導入部と、を備え、高圧気体領域によって洗浄液が開口部を介して処理液系統に押し出される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)