Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2018061365) COMPOSITION DE TRAITEMENT DE SURFACE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international    Formuler une observation

N° de publication : WO/2018/061365 N° de la demande internationale : PCT/JP2017/023949
Date de publication : 05.04.2018 Date de dépôt international : 29.06.2017
CIB :
C11D 3/37 (2006.01) ,C11D 1/12 (2006.01) ,C11D 1/34 (2006.01) ,C11D 3/22 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3
Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16
Composés organiques
37
Polymères
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1
Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
02
Composés anioniques
12
Esters des acides sulfoniques ou de l'acide sulfurique; Leurs sels
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
1
Compositions détergentes formées essentiellement de composés tensio-actifs; Emploi de ces composés comme détergents
02
Composés anioniques
34
Dérivés des acides du phosphore
C CHIMIE; MÉTALLURGIE
11
HUILES, GRAISSES, MATIÈRES GRASSES OU CIRES ANIMALES OU VÉGÉTALES; LEURS ACIDES GRAS; DÉTERGENTS; BOUGIES
D
COMPOSITIONS DÉTERGENTES; EMPLOI D'UNE SUBSTANCE, UTILISÉE SEULE, COMME DÉTERGENT; SAVON OU FABRICATION DU SAVON; SAVONS DE RÉSINE; RÉCUPÉRATION DE LA GLYCÉRINE
3
Autres composés entrant dans les compositions détergentes couvertes par le groupe C11D1/110
16
Composés organiques
20
contenant de l'oxygène
22
Hydrates de carbone ou leurs dérivés
H ÉLECTRICITÉ
01
ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
L
DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21
Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02
Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
04
les dispositifs présentant au moins une barrière de potentiel ou une barrière de surface, p.ex. une jonction PN, une région d'appauvrissement, ou une région de concentration de porteurs de charges
18
les dispositifs ayant des corps semi-conducteurs comprenant des éléments du quatrième groupe de la Classification Périodique, ou des composés AIIIBV, avec ou sans impuretés, p.ex. des matériaux de dopage
30
Traitement des corps semi-conducteurs en utilisant des procédés ou des appareils non couverts par les groupes H01L21/20-H01L21/26162
302
pour changer leurs caractéristiques physiques de surface ou leur forme, p.ex. gravure, polissage, découpage
304
Traitement mécanique, p.ex. meulage, polissage, coupe
Déposants :
株式会社フジミインコーポレーテッド FUJIMI INCORPORATED [JP/JP]; 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目1番地1 1-1, Chiryo 2-chome, Nishibiwajima-cho, Kiyosu-shi, Aichi 4528502, JP
Inventeurs :
吉▲崎▼ 幸信 YOSHIZAKI, Yukinobu; JP
坂部 晃一 SAKABE, Koichi; JP
鎗田 哲 YARITA, Satoru; JP
古本 健一 KOMOTO, Kenichi; JP
Mandataire :
八田国際特許業務法人 HATTA & ASSOCIATES; 東京都千代田区二番町11番地9 ダイアパレス二番町 Dia Palace Nibancho, 11-9, Nibancho, Chiyoda-ku, Tokyo 1020084, JP
Données relatives à la priorité :
2016-19037528.09.2016JP
Titre (EN) SURFACE TREATMENT COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE TRAITEMENT DE SURFACE
(JA) 表面処理組成物
Abrégé :
(EN) The present invention relates to a surface treatment composition which comprises at least one water-soluble polymer selected from the following group A, at least one anionic surfactant selected from the following group B, and water. Group A: water-soluble polysaccharides, poly(vinyl alcohol) and derivatives thereof, and polyvinylpyrrolidone and derivatives thereof (excluding any compounds involved in the group B). Group B: compounds having a sulfonic acid (salt) group, compounds having a sulfuric acid ester (salt) group, compounds having a phosphonic acid (salt) group, compounds having a phosphoric acid (salt) group, and compounds having a phosphinic acid (salt) group. The present invention can provide a surface treatment composition with which foreign matter, such as particles and organic residues, remaining on the surface of a polished work can be effectively removed.
(FR) L’invention concerne une composition de traitement de surface qui contient au moins une sorte de polymère hydrosoluble choisie dans le groupe (A), au moins une sorte de tensio-actif anionique choisie dans le groupe (B), et une eau. Groupe (A) : polysaccharide hydrosoluble, alcool polyvinylique ainsi que dérivé de celui-ci, et polyvinylpyrrolidone ainsi que dérivé de celui-ci (les composés contenus dans le groupe (B) étant exclus). Groupe (B) : composé possédant un groupe (sel) acide sulfonique, composé possédant un groupe (sel) ester d’acide sulfurique, composé possédant un groupe (sel) acide phosphonique, composé possédant un groupe (sel) acide phoshorique, et composé possédant un groupe (sel) acide phosphinique. Ainsi, l’invention fournit une composition de traitement de surface qui permet de retire de manière efficace des substances étrangères, telles que des particules ou des résidus de substances organiques, restées à la surface d’un objet à polir au moyen d’un agent de polissage.
(JA) 本発明は、下記A群から選択される少なくとも一種の水溶性高分子と、下記B群から選択される少なくとも一種のアニオン性界面活性剤と、水と、を含む、表面処理組成物に関する: A群:水溶性多糖類、ポリビニルアルコールおよびその誘導体、ならびにポリビニルピロリドンおよびその誘導体(ただし、下記B群に含まれる化合物を除く) B群:スルホン酸(塩)基を有する化合物、硫酸エステル(塩)基を有する化合物、ホスホン酸(塩)基を有する化合物、リン酸(塩)基を有する化合物、およびホスフィン酸(塩)基を有する化合物。本発明によれば、研磨済研磨対象物の表面に残留するパーティクルおよび有機物残渣といった異物を効率的に除去することができる表面処理組成物が提供される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)