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1. (WO2018050876) COMPOSANT POUR UN SYSTÈME DE MIROIRS POUR LA LITHOGRAPHIE EUV

Pub. No.:    WO/2018/050876    International Application No.:    PCT/EP2017/073376
Publication Date: Fri Mar 23 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Mon Sep 18 01:59:59 CEST 2017
IPC: G03F 7/20
C22C 32/00
C22C 47/04
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH
Inventors: EVA, Eric
Title: COMPOSANT POUR UN SYSTÈME DE MIROIRS POUR LA LITHOGRAPHIE EUV
Abstract:
L'invention concerne un composant pour un système de miroirs pour la lithographie EUV, destiné à être utilisé en particulier dans des miroirs à facettes à l’intérieur de systèmes d’éclairage de dispositifs de lithographie EUV. Le composant (500) selon l’invention se caractérise en ce qu’il est réalisé au moins partiellement à partir d’un matériau composite comprenant un matériau de matrice (502) contenant du cuivre et/ou de l’aluminium et un matériau de renforcement sous forme de fibres (504), le matériau composite présentant des particules (508) d’un ou de plusieurs matériaux du groupe constitué par le graphite, le carbone sous forme de diamant amorphe et la céramique.